半導体実験室用オーブンラムプ

ファブの現場では、フォトレジストのベイク処理は任意の操作ではなく、必須の工程です。ソフトベイク時にわずか0.5度の誤差があっても、これはウェハの寸法精度に影響を与えます。ハードベイク時には、熱の不均一性が原因でウェハ表面に汚れがつき、歩留まりが悪化します。したがって、シフトを重ねても安定した温度を...