リソグラフィー工程において、ソフトベイクとハードベイクの段階で、フォトレジストの厚みが決定されます。もしウエハ全体での加熱が均一でなければ、厚みにばらつきが生じます。これは後のエッチング工程でCDのばらつきとして現れ、結果としてウエハが廃棄処分となってしまいます。
重要なポイント 私たちは、短波長のNIR光源を利用したランプを開発しました。このランプには炭素繊維強化石英製の窓が組み合わせられており、ウエハ全体の温度を±0.1℃以内に保ちます。また、サイクルごとの温度の再現性も±0.5℃以内です。16個のセンサーを使ったフィードバック制御により、安定した温度管理が可能で、溶剤がフォトレジストから適切に除去されます。このランプはクラス1～100の清浄室で24時間365日稼働し、インライン検出により粒子数が0.01/cm²未満であることが確認されています。
このような高精度な制御により、ソフトベイクでは溶剤が一貫して除去され、ハードベイクではフォトレジストの厚みが正確に設定されます。その結果、ウエハの線幅や側壁の角度が一定に保たれます。
エッチング工程では、この改善効果がすぐに現れます。マイクロローディング効果が減少し、再工程が少なくなり、ウエハ全体でのCD制御が可能になります。また、ランプが数秒で所定の温度に到達し、ほとんど変動しないため、無駄な熱損失も減少します。
設置は簡単ですが、窓の温度を所定の値に保つためには、専用の24VDC電源と清潔で乾燥した空気供給装置が必要です。ほとんどのコーティング/ベイク装置に適合しますが、各装置に合ったアダプターを使用する必要があります。
全体の加熱システムのための熱管理をしっかり計画する必要があります。ランプの性能は、チャックやウエハの熱容量に依存します。