ファブの現場では、熱的なばらつきが黙々と歩留まりを損なっていく。フォトレジストを焼成する際にウェーハ上で0.5℃もの温度差が生じたり、蒸発過程でランプの性能が低下したりすると、本来再現性のあるはずのプロセスが不安定になってしまう。私たちは、そのような不確実性を排除するためにEvatec蒸発用ランプを開発した。
技術的に重要な点 このランプは、石英製のケースの中に短波長のハロゲン光源が搭載されており、わずか数秒以内に迅速かつ直接的な熱が供給される。ウェーハ全体において、温度の均一性は±0.1℃以内に保たれ、ソフトベイクからハードベイクに至るまで、温度の再現性も高い。また、粒子の発生もないため、クリーンルームのクラス1～100の基準値も維持される。24時間365日稼働可能で、予期せぬ停止もなく、5,000時間以上使用しても出力の低下は5％未満だ。
実際に効果的な理由 ウェーハの洗浄後の乾燥処理や、フォトレジストの焼成、パッケージング時の封止剤の硬化処理、最終的な洗浄・乾燥処理など、どのような工程でも温度管理が厳格に行われる。高い均一性により、端部分の欠陥が減少し、再作業も少なくなり、リソグラフィーにおける寸法の安定性も向上する。迅速な反応速度によりサイクルタイムが短縮され、安定した出力によりスクラップが減少し、ランプの寿命も延びる。その結果、交換回数が減り、ウェーハ1枚あたりのエネルギー消費も削減される。
知っておくべきこと 設置時には、装置のコネクタインターフェースを合わせ、反射器の形状がチャンバーの開口部と正しく一致しているかを確認する必要がある。出力密度は特定の蒸発速度に合わせて調整されているため、異なるマシン間でランプを交換する際には、設定値を迅速に再調整する必要がある。交換後は、均一性を確保するために、短時間のテスト運転と温度チェックを行うことが望ましい。