Mengapa pemanas khusus diperlukan untuk proses pembakaran lembut
Kami menghasilkan elemen pemanas khusus untuk proses pembakaran lembut dalam teknologi litografi, terutamanya untuk peringkat awal pengeluaran wafer. Tujuannya sangat mudah: memastikan suhu yang tepat pada tempat yang diperlukan semasa proses pengeringan bahan fotoresist berlangsung.
Realitinya, sedikit saja kesilapan dalam pengukuran suhu boleh menyebabkan seluruh proses gagal. Oleh itu, kami menggunakan tiub halogen berkepadatan tinggi sebagai komponen pemanas. Tiub ini mampu menghasilkan haba yang stabil dan konsisten di tempat yang diperlukan, tanpa mengganggu proses lain.
Tenaga, voltan, dan ruang yang diperlukan
Pemanas ini direka untuk digunakan dalam ruang yang sempit. Ia beroperasi pada voltan dan kepadatan tinggi, supaya ia dapat dimasukkan ke dalam ruang yang kecil tanpa menjejaskan prestasinya.
Voltan 400V memberikan kuasa yang mencukupi, dan ia dapat disimpan dalam bentuk tiub kuarsa sepanjang 300 mm. Pilihan voltan ini juga membantu mengurangkan arus yang digunakan, sehingga tidak perlu menggunakan kabel yang besar. Selain itu, komponen terminalnya juga tetap sejuk.
Dengan kuasa 2500W, pemanas ini dapat meningkatkan suhu dengan cepat, dan mampu mengekalkan suhu yang ditetapkan walaupun semasa proses berlangsung dengan beban yang tinggi.
Bahan yang digunakan
Di dalam pemanas ini terdapat unsur halogen berfrekuensi rendah, yang terletak di dalam tiub kuarsa yang berkualiti tinggi. Kuarsa mampu menahan perubahan suhu secara efektif, serta memastikan pengeluaran haba yang stabil. Unsur halogen pula memastikan filamen tetap stabil dari masa ke masa, sehingga profil pembakaran tetap konsisten.
Tiub ini menggunakan sambungan R7s – reka bentuk dua pin yang memastikan sambungan yang baik, tahan terhadap perubahan suhu, serta memudahkan proses penggantian lampu semasa penyelenggaraan.
Bagaimana prestasinya dalam praktik
Dalam proses pembuatan wafer, proses pembakaran lembut perlu dilakukan dengan cepat dan secara konsisten, agar bahan fotoresist dapat kering sebelum proses pendedahan berlangsung. Pemanas ini mampu melaksanakan tugas ini dengan baik, kerana ia memiliki medan radiasi yang kuat serta kawalan suhu yang tepat.
Saiznya yang kompak memudahkan ia digabungkan dengan sistem pelapisan/warm-up yang sudah ada. Namun, terdapat trade-off – kerana haba yang dihasilkan sangat tinggi, sistem penyejukan dan aliran udara perlu dikonfigurasikan dengan baik agar suhu di sekitar lampu tetap stabil.
Kami yakin dengan reka bentuk ini, kerana ia mampu mengekalkan suhu yang ditetapkan walaupun proses berulang-ulang kali. Jika anda ingin mencubanya bersama-sama dengan peralatan lain, kami akan sediakan spesifikasinya agar anda dapat menilai sendiri prestasinya.