Dalam proses litografi, proses “soft bake” dan “hard bake” merupakan langkah-langkah di mana profil photoresist dibentuk atau diubah. Jika proses pemanasan tidak dilakukan secara seragam pada keseluruhan permukaan wafer, ia akan menyebabkan perbezaan ketebalan pada permukaan wafer tersebut. Perbezaan ini akan menyebabkan masalah seperti perubahan nilai CD setelah proses etching, dan akhirnya wafer tersebut akan menjadi barang buangan.
Apa yang penting dalam proses ini
Lampu yang digunakan untuk proses pemanasan photoresist ini direka berdasarkan sistem pemancar cahaya gelombang pendek jenis NIR, bersama-sama dengan tingkap kuarza yang diperkuat dengan serat karbon. Sistem ini memastikan suhu pada permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C, manakala pengulangan suhu pula berada dalam lingkungan ±0.5°C dari satu kitaran ke kitaran yang lain. Array sensor sebanyak 16 buah membantu mengawal suhu dengan lebih tepat, sehingga cecair dalam photoresist dapat dikeluarkan tanpa menyebabkan masalah. Lampu ini beroperasi 24/7 dalam bilik bersih kelas 1–100, dan tidak menghasilkan sebarang zarah, seperti yang dibuktikan melalui pengiraan jumlah zarah yang kurang dari 0.01/cm².
Inilah sebabnya mengapa ketepatan ini sangat penting dalam proses litografi. Proses “soft bake” membantu mengeluarkan cecair dari photoresist secara konsisten, sementara proses “hard bake” pula memastikan struktur photoresist tetap stabil. Dengan cara ini, lebar garis dan sudut dinding wafer akan tetap stabil.
Proses etching juga menunjukkan peningkatan yang ketara: kurangnya kesan mikro-loading, kurangnya keperluan untuk melakukan kerja pembaikan, serta kawalan nilai CD yang lebih baik pada keseluruhan permukaan wafer. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana lampu dapat mencapai suhu yang ditetapkan dalam masa beberapa saat sahaja, dan suhu tersebut dapat dipertahankan dengan stabil, sekali gus mengurangkan pembaziran tenaga.
Pemasangan lampu ini mudah, tetapi diperlukan bekalan kuasa 24VDC yang khusus, serta udara kering yang bersih untuk mengekalkan suhu tingkap pada tahap yang ditetapkan. Lampu ini sesuai untuk kebanyakan mesin penggilapan/pemanasan, tetapi perlu pastikan adanya adapter yang sesuai untuk setiap platform tertentu.
Rancanglah strategi pengurusan suhu untuk keseluruhan proses pemanasan. Prestasi lampu bergantung pada jisim haba chuck dan susunan wafer itu sendiri.