На цеху літографії процеси „м’якого“ та „жорсткого“ випалювання є ключовими етапами, під час яких формується або порушується профіль фотополімеру. Якщо процес випалювання не є однорідним по всій поверхні пластини, це призводить до змін її товщини. Це згодом проявляється у відхиленнях параметрів CD після етчування, а пластина стає непридатною до подальшого використання.
Що є важливим у цьому процесі
Ми створили лампу для випалювання фотополімеру на основі массиву джерел короткочастотного інфрачервоного світла, поєднаного з кварцовим склом, зміцненим вуглецевими волокнами. Це забезпечує однорідність температури на поверхні пластини до рівня ±0,1°C, а повторюваність температури залишається в межах ±0,5°C між циклами. Массив з 16 датчиків дозволяє контролювати профіль температури в закритому циклі, що забезпечує стабільні умови для випаровування розчинника з фотополімеру без перевищення заданих значень. Лампа працює 24/7 у чистих приміщеннях класу 1–100 та не створює жодних частинок; це підтверджується показниками кількості частинок, які залишаються нижче 0,01/см².
Саме ця точність дозволяє досягти бажаних результатів під час процесу літографії. Процес „м’якого“ випалювання дозволяє ефективно випаровувати розчинник, а процес „жорсткого“ випалювання забезпечує стабільність профілю фотополімеру, тож ширина ліній та кути їхніх стінок залишаються на потрібному рівні.
Процес етчування також показує позитивні результати: менше ефектів мікронавантаження, менше необхідності повторної обробки, а також можливість точного контролю параметрів CD по всій поверхні пластини. Також зменшується споживання енергії, оскільки лампа досягає заданої температури за кілька секунд та підтримує її з мінімальними відхиленнями, що зменшує втрати енергії.
Встановлення лампи є простим, але потрібен спеціальний джерело живлення 24VDC та постачання чистого сухого повітря для підтримання температури скла на необхідному рівні. Лампа підходить для більшості установок для нанесення та випалювання шарів, але необхідно переконатися у наявності адаптерів, призначених конкретно для кожної платформи.
Необхідно правильно спланувати параметри теплового режиму для всієї системи випалювання. Ефективність лампи залежить від теплової ємності кріплення пластини та самої пластини.