Üretim tesislerinde, kurutma aşamasında meydana gelen küçük bir sapma bile fotoresist profillerinin standartlardan sapmasına neden olabilir. Bu durumda waflerin atılmasına ve gereksiz yere enerji harcanmasına yol açılır. Peki ya enerji israfı? Bu durum, verimsiz ısıtma döngüleri ve bunun sonucunda ortaya çıkan yeniden kalibrasyonlar yüzünden giderek artar. Biz ise her iki sorunu da ele alan bir ısıtma sistemi geliştirdik: Bu sistem, enerji tüketimini azaltırken aynı zamanda litografi işlemleri için gerekli olan ısı seviyesini korur.
Teknik olarak önemli olan şeyler
Kurutma sürecinde waflerin sıcaklık değerlerini ±0,1°C aralığında tutuyoruz; böylece hem yumuşak hem de sert kurutma işlemleri belirlenen formüllere göre gerçekleşir. Bu sistem, parçacık üretmeyerek 1–100 sınıfı temiz odalarda çalışır ve bu sayede kritik aşamalarda üretim verimliliği korunur. Isıtıcı yapısı, 24/7 çalışabilme özelliğine sahip olup, planlanmamış arızaların olmaması ve 10.000 saatin üzerinde kullanım ömrü vardır.
Tekrarlanabilirlik, varsayılmaz; ölçülür. Ardışık işlemlerde belirlenen sıcaklık değerlerine ulaşılır ve hat voltajı değişse bile kontrol döngüsü stabil kalır.
Neden gerçek üretim tesislerinde işe yarıyor?
Buradaki enerji tüketimi görülebilir, ölçülebilir ve kontrol edilebilir. Her parti ve her wafer için enerji tüketimini analiz ediyoruz; ardından fazla ısıyı azaltmak için ısıtma ayarlarını düzenliyoruz. Böylece daha hızlı işlemler, daha düşük enerji maliyetleri ve daha az atık elde edilir. Fotoresist işlem parametreleri değişmez. Sonuç olarak, her ay düzenli bir şekilde kritik boyut kontrolü sağlanır ve wafer başına maliyetler düşer.
Bilinmesi gerekenler
Bu platform mevcut cihazlarla entegre olabiliyor; ancak belirtilen hassasiyeti koruyabilmek için özel bir güç devresi ve temiz hava beslemesi gerekiyor. Fotoresist ayarlarınızı uyumlu hale getirmek için kısa bir kurulum süresi planlanmalıdır. Kalibre edildikten sonra sistem, sürekli, tekrarlanabilir ve enerji açısından verimli bir şekilde çalışır.