
Op de productielijn is zelfs een kleine afwijking tijdens het drogenstappen voldoende om de specificaties van de fotorezystlaag te verstoren. Hierdoor moet men de wafer’s weggooien en wordt er onnodig veel energie verbruikt. En die energieverliezen? Die stapelen zich op door inefficiënte verhittingssystemen en alle benodigde herkalibraties. Wij hebben een thermisch systeem ontwikkeld dat beide problemen tegengaat: het verminderd het energieverbruik, terwijl het de benodigde temperatuur toch behoudt voor de lithografieproces.
Wat technisch gezien belangrijk is Tijdens het droogproces houden we de uniformiteit op het niveau van de individuele wafer’s binnen ±0,1°C. Hierdoor blijven zowel het zachte als het harde droogproces volgens de voorgeschreven parameters verlopen. Het systeem kan worden gebruikt in schone ruimtes van klasse 1–100, zonder dat er partikels vrijkomen. Dit beschermt de kwaliteit van de wafer’s bij cruciale productiestappen. De verhittingsarchitectuur is ontworpen om 24/7 te werken, zonder onverwachte stilstanden. De levensduur van het systeem is meer dan 10.000 uur.
De reproduceerbaarheid wordt gemeten, in plaats van alleen verondersteld. Elke opeenvolgende productiecyclus bereikt de gewenste temperatuur zonder afwijkingen. De regelingscyclus blijft stabiel, zelfs wanneer de spanning varieert.
Waarom het werkt in een echt productieproces Het energieverbruik is hier zichtbaar, meetbaar en beheersbaar. We voeren een energieaudit uit, waarbij het verbruik per batch en per wafer wordt vastgesteld. Vervolgens passen we de verhittingstijden aan, zodat er geen overtollige warmte wordt geproduceerd. Hierdoor kunnen de productiecycli sneller verlopen, zijn de kosten lager en worden er minder wafer’s weggegooid. Bovendien blijft de kwaliteit van de fotorezystlaag constant. Op deze manier kan er maand na maand een constante controle over de kwaliteit van de wafer’s worden behouden, met lagere kosten per wafer.
Wat je moet weten Het systeem kan worden geïntegreerd in bestaande apparaten en ovens. Echter, het heeft een aparte stroomvoorziening en een zuivere luchtpost nodig om de gewenste uniformiteit te behouden. Plan voor een korte inrichtingsperiode, zodat de parameters van het systeem kunnen worden aangepast aan de vereisten van de fotorezystlaag. Eenmaal gekalibreerd, werkt het systeem continu, reproduceerbaar en energie-efficiënt.