Op de lithografievloer weet je hoe het werkt: een bake die zelfs maar een halve graad afwijkt, gooit de CD-controle uit de specificaties. Je laat DUV-fotohars door een zachte en harde bake gaan om oplosmiddel te verwijderen en het profiel vast te leggen. Als de thermische budget niet klopt, worden lijnen breed, neemt de randruwheid toe en is de hele partij plotseling in het rood. De DUV-resist bake-lamp is ontworpen om deze variabiliteit uit te sluiten.
Wat er echt toe doet onder de motorkap
We hebben deze lamp gebouwd om kortegolfenergie daar te dumpen waar DUV-resist het daadwerkelijk absorbeert, met quartz-onderdelen die het spectrum stabiel houden. Over de chuck blijft de wafer-niveau uniformiteit binnen ±0,1°C, zodat elke wafer in de batch dezelfde temperatuursgeschiedenis heeft. Het gedrag in de schone kamer is geen bijzaak—Class 1–100 ruimtes vertonen geen deeltjesstoten, en de hete zone blijft ingekapseld, zodat uitgasvorming de resist niet kan vervuilen. De output herhaalt zich over duizenden bake-cycli, en de thermische massa wordt beheerd zodat er geen drift optreedt wanneer de lijn 24/7 draait.
Waarom het standhoudt in DUV-lithografie
De opbrengst hangt af van procesvensters die je daadwerkelijk kunt behouden. Strengere thermische controle vermindert CD-uitstapjes en beschermt de overlay-marges, wat betekent dat er minder afval en minder herbewerkingen zijn. De verkorting aan het einde van de lijn blijft consistent, en de randruwheid neemt af omdat het bake-profiel partij na partij herhaald wordt. Efficiënte koppeling en snelle stabilisatie houden het energieverbruik in de hand, en het betrouwbaarheidspatroon houdt je op schema zonder onverwachte stilstand. De winst is minder strijd met parameters en output die je kunt voorspellen.
Wat je moet doen bij installatie
Het afstemmen van de lampvoetafdruk en interface op je coater/bake-track is stap één. We leveren de connector specificaties en uitlijngegevens, maar je moet de geometrie van de ovenholte nog steeds verifiëren. Verwacht een snelle burn-in en thermische mapping om het profiel op je resist-stapel te vergrendelen. En een praktische opmerking: de lamp moet worden gekoppeld aan een schone kamer-gekeurde afvoerpunt om sporen van vluchtige stoffen tijdens hoge-temperatuur bakes af te voeren.