제조 공장에서는 건조 단계에서 발생하는 약간의 오차만으로도 포토레지스트의 특성이 규격에서 벗어날 수 있습니다. 그 결과 웨이퍼를 폐기해야 하고, 불필요하게 에너지가 낭비됩니다. 게다가 비효율적인 가열 과정과 그에 따른 재조정 작업으로 인해 에너지 낭비가 점점 더 심해집니다. 저희는 이러한 문제들을 해결하기 위한 열 관리 시스템을 개발했습니다. 이 시스템은 에너지 사용을 줄이면서도 리소그래피에 필요한 적절한 온도 조건을 유지해줍니다.
기술적으로 중요한 점 발열 과정 전반에 걸쳐 웨이퍼의 온도를 ±0.1°C 이내로 일관되게 유지함으로써, 소프트 베이크와 하드 베이크 과정이 정해진 규칙대로 진행됩니다. 이 시스템은 1등급~100등급의 청정실에서도 사용할 수 있으며, 입자가 생성되지 않아 핵심 단계에서의 생산성을 보호해줍니다. 히터 구조는 24시간 연속 작동을 견딜 수 있도록 설계되었으며, 예상치 못한 다운타임이 없으며 10,000시간 이상의 수명을 자랑합니다.
반복성은 단순히 가정된 것이 아니라 실제로 측정됩니다. 연속적인 작동 시에도 설정된 값에서 벗어나지 않으며, 선간 전압이 변동해도 제어 루프는 안정적으로 작동합니다.
실제 제조 공장에서의 성능 여기서는 에너지 사용량을 명확하게 파악하고 측정할 수 있으며, 제어도 가능합니다. 저희는 각 배치 및 각 웨이퍼별로 에너지 소비량을 분석한 후, 과도한 열을 줄이면서도 공정의 안정성을 유지할 수 있도록 설정값을 조정합니다. 그 결과 처리 속도가 빨라지고, 에너지 비용이 줄어들며, 폐기되는 웨이퍼의 양도 줄어듭니다. 포토레지스트 공정의 범위도 변하지 않습니다. 그 결과, 매달 일관된 정밀도와 낮은 웨이퍼당 비용을 얻을 수 있습니다.
알아두어야 할 사항 이 시스템은 기존의 오븐 및 장비와 연동될 수 있지만, 명시된 일관성을 유지하기 위해서는 별도의 전력 공급 장치와 청정한 공기 공급이 필요합니다. 포토레지스트 공정에 맞게 설정값을 조정하는 데는 약간의 시간이 필요합니다. 일단 설정이 완료되면, 이 시스템은 지속적이고 반복적으로 작동하며, 에너지 효율도 뛰어납니다.