در فرآیند لیتوگرافی، مراحل پخت نرم و سخت، جایی هستند که پروفایل رزیست فتوولتائیک شکل میگیرد یا از بین میرود. اگر فرآیند پخت در سراسر ویفر یکنواخت نباشد، منجر به تغییرات ضخامتی در رزیست خواهد شد. این تغییرات بعدها به صورت انحرافات در ابعاد ویفر پس از فرآیند حکاکی ظاهر میشوند و ویفر نیز بیفایده میگردد.
چه چیزهایی اهمیت دارند؟
ما لامپ مورد استفاده برای پخت رزیست فتوولتائیک را بر اساس یک آرایه از ساطعکنندههای نور کوتاهموج توسعه دادیم؛ این لامپ همراه با یک پنجره از جنس کوارتز تقویتشده با الیاف کربنی عمل میکند. این سیستم باعث میشود یکنواختی دمایی در سراسر ویفر در محدوده ±۰٫۱ درجه سانتیگراد حفظ شود؛ همچنین تکرارپذیری دما نیز در محدوده ±۰٫۵ درجه سانتیگراد است. آرایه ۱۶ حسگر نیز به کنترل دقیق دما کمک میکند؛ در نتیجه محلول موجود در رزیست به طور یکنواخت خارج میشود. این لامپ به طور مداوم در اتاقهای تمیز کلاس ۱–۱۰۰ کار میکند و هیچ ذرهای تولید نمیکند؛ این موضوع با شمارش ذرات در سطح ویفر کمتر از ۰٫۰۱/سانتیمتر مربع تأیید میشود.
دلیل این دقت، این است که فرآیند پخت نرم باعث خارج شدن یکنواخت محلول از رزیست میشود؛ همچنین فرآیند پخت سخت نیز باعث تثبیت پروفایل رزیست بدون هیچ جریانی میشود؛ در نتیجه عرض خط و زاویه دیوارههای ویفر در محدوده مناسب خود باقی میمانند.
فرآیند حکاکی نیز بلافاصله تأثیرات مثبت این سیستم را نشان میدهد: کاهش اثرات ناشی از بارهای میکروسکوپی، کاهش کارهای تکراری، و کنترل قابل پیشبینی ابعاد ویفر. مصرف انرژی نیز کاهش مییابد، زیرا لامپ در عرض چند ثانیه به دمای مورد نظر میرسد و آن را با حداقل نوسان حفظ میکند؛ در نتیجه تلفات انرژی ناشی از گرمای اضافی کاهش مییابد.
نصب این لامپ ساده است، اما برای حفظ دمای پنجره در محدوده مورد نیاز، به منبع تغذیه ۲۴ ولت DC و همچنین هوای تمیز و خشک نیاز است. این لامپ مناسب اکثر دستگاههای رنگآمیزی/پخت است؛ اما برای هر پلتفرم، به آداپترهای مخصوص آن نیاز است.
باید بودجه حرارتی کل سیستم را در نظر بگیرید؛ عملکرد لامپ به جرم حرارتی چاک و ویفر بستگی دارد.