<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>光刻胶 on Warm IR Halogen Heating</title>
		<link>http://warm-ir-halogen.com/zh/tags/%E5%85%89%E5%88%BB%E8%83%B6/</link>
		<description>Recent content in 光刻胶 on Warm IR Halogen Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>zh</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-halogen.com/zh/tags/%E5%85%89%E5%88%BB%E8%83%B6/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>均匀性光刻胶烘烤灯</title>
				<link>http://warm-ir-halogen.com/zh/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-halogen.com/zh/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;均匀性光刻胶烘烤灯&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;在光刻工序中，软烘烤和硬烘烤阶段决定了光阻层的厚度是否均匀。如果晶圆各处的烘烤温度不均匀，就会导致&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;光阻层厚度&lt;/a&gt;出现差异。这种差异会在刻蚀后体现为晶圆厚度的波动，最终使得晶圆无法使用。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;关键在于精确控制温度&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;我们设计的&lt;/a&gt;光阻烘烤灯采用了短波近红外光源阵列，同时搭配了碳纤维增强型石英窗口。这种设计能够将晶圆表面的温度控制在±0.1°C以内，而各次烘烤之间的温度重复性则保持在±0.5°C左右。16个传感器构成的阵列可实现对温度的闭环控制，从而确保光阻层中的溶剂能够被有效去除，且不会过度加热。该灯具可在1级至100级的洁净室中24/7持续工作，产生的颗粒物数量极少，实测数值低于0.01/cm²。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;正是由于这样的精准控制，才能确保光阻层的厚度保持稳定。软烘烤阶段能确保溶剂均匀地从光阻层中排出，而硬烘烤阶段则能确保光阻层厚度保持恒定，从而让线路宽度和侧壁角度都保持在其理想状态。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
