Sưởi Ấm on Warm IR Halogen Heating

Khoảng cách an toàn khi làm nóng wafer

Tue, 28 Jul 2026 03:15:03 +0800

Sưởi ấm bằng tia hồng ngoại so với sưởi ấm bằng khí nóng: Bạn muốn sử dụng phương pháp nào để làm nóng các tấm wafer của mình?

Nếu bạn chuyển từ phương pháp sưởi ấm bằng khí nóng sang phương pháp sưởi ấm bằng tia hồng ngoại, thì bạn đang thay đổi toàn bộ cách thức truyền nhiệt đến các tấm wafer.

Hãy nghĩ về phương pháp sưởi ấm bằng khí nóng: Bạn làm nóng không khí, sau đó thổi khí đó vào buồng xử lý, rồi chờ đợi cho đến khi không khí truyền nhiệt sang tấm wafer. Quá trình này diễn ra rất chậm. Có một khoảng thời gian chờ đợi khá dài.

Hệ thống sưởi ấm bằng chất bán dẫn tiết kiệm năng lượng

Tue, 14 Jul 2026 11:46:41 +0800

Tại sao chúng ta lại từ bỏ phương pháp sấy bằng lò nướng để chuyển sang phương pháp sấy bằng tia hồng ngoại?
Hãy thành thật mà nói: Phương pháp sấy truyền thống – tức là cho các linh kiện bán dẫn vào trong lò nướng khổng lồ – đang dần trở nên lỗi thời. Hầu hết chúng ta hiện đang chuyển sang sử dụng phương pháp sấy bằng tia hồng ngoại. Điều này không chỉ nhằm tuân thủ các tiêu chuẩn “xanh” hay loại bỏ chất chì khỏi quy trình sản xuất, mà còn vì phương pháp sấy bằng lò nướng quả thực kém hiệu quả.

Bộ phận sưởi thay thế độ bảo vệ IP65

Fri, 10 Jul 2026 02:01:14 +0800

Hãy ngừng lãng phí thời gian vào việc thay thế các bộ phận sưởi ấm đi.
Thành thật mà nói: các hệ thống sưởi ấm bằng tia hồng ngoại công nghiệp thường không hỏng do chính bộ phận sưởi ấm kém chất lượng. Chúng hỏng vì việc thay thế các bộ phận hỏng thật sự là một công việc khó khăn và phức tạp.

Hãy tưởng tượng: một bộ phận sưởi ấm bị hỏng sau năm năm sử dụng. Bạn phải đối mặt với hai lựa chọn: hoặc tháo rời toàn bộ máy móc, hoặc mạo hiểm làm hỏng các chi tiết kín để thay thế bộ phận hỏng. Đó là một việc phiền phức mà ai cũng không muốn trải qua.

Thiết bị gia nhiệt dùng trong quy trình in phun Lithography

Sat, 04 Jul 2026 05:28:26 +0800

Tại sao việc sử dụng thiết bị gia nhiệt chuyên dụng lại rất quan trọng trong quá trình xử lý bề mặt wafer?
Chúng tôi chế tạo các linh kiện gia nhiệt dành riêng cho quá trình xử lý bề mặt wafer bằng phương pháp lithography. Mục đích của việc này rất đơn giản: duy trì nhiệt độ chính xác ở những vị trí cần thiết trong quá trình làm khô chất bảo vệ bề mặt wafer.

Bóng đèn sưởi hồng ngoại R7s dành cho phòng sản xuất

Fri, 19 Jun 2026 02:45:33 +0800

Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, chỉ cần có sự thay đổi nhiệt độ 2°C trong quá trình sấy công thức in, thì kích thước của các chi tiết được in ra cũng sẽ thay đổi vài nanomet. Điều này khiến nhiều tấm wafer trở thành rác thải. Bóng đèn sưởi bằng tia hồng ngoại R7s được thiết kế để duy trì nhiệt độ ổn định trong khu vực cần sấy – chứ không lan tỏa ra khắp nơi.

Đèn sưởi của bộ bay hơi Evatec

Thu, 18 Jun 2026 01:31:05 +0800

Trong quy trình sản xuất, yếu tố nhiệt độ có thể ảnh hưởng tiêu cực đến chất lượng sản phẩm. Chỉ cần có sự chênh lệch nhiệt độ 0,5°C trên bề mặt wafer trong quá trình xử lý bằng hóa chất, hoặc chiếc đèn sử dụng để làm khô wafer hoạt động kém hiệu quả, thì quy trình vốn dĩ có thể được lặp lại một cách nhất quán sẽ trở thành điều không thể dự đoán được. Chúng tôi đã thiết kế chiếc đèn sấy Evatec để loại bỏ những yếu tố gây ra sự không ổn định này.