<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Nướng on Warm IR Halogen Heating</title>
		<link>http://warm-ir-halogen.com/vi/tags/n%C6%B0%E1%BB%9Bng/</link>
		<description>Recent content in Nướng on Warm IR Halogen Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 04 Jul 2026 05:28:26 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-halogen.com/vi/tags/n%C6%B0%E1%BB%9Bng/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Thiết bị gia nhiệt dùng trong quy trình in phun Lithography</title>
				<link>http://warm-ir-halogen.com/vi/posts/lithography-soft-bake-heating-element/</link>
				<pubDate>Sat, 04 Jul 2026 05:28:26 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-halogen.com/vi/posts/lithography-soft-bake-heating-element/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Thiết bị gia nhiệt dùng trong quy trình in phun Lithography&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Tại sao việc sử dụng thiết bị gia nhiệt chuyên dụng lại rất quan trọng trong quá trình xử lý bề mặt wafer?&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Chúng tôi chế tạo các linh kiện gia nhiệt dành riêng cho quá trình xử lý bề mặt wafer bằng phương pháp lithography. Mục đích của việc này rất đơn giản: duy trì nhiệt độ chính xác ở những vị trí cần thiết trong quá trình làm khô chất bảo vệ bề mặt wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Đèn sấy chất cảm quang dùng để đạt mức độ đồng nhất</title>
				<link>http://warm-ir-halogen.com/vi/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-halogen.com/vi/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Đèn sấy chất cảm quang dùng để đạt mức độ đồng nhất&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình in ấn bằng kỹ thuật &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;litography&lt;/a&gt;, giai đoạn “soft bake” và “hard bake” chính là lúc hình dạng của lớp phim quang học được xác định hoặc thay đổi. Nếu việc sấy khô không diễn ra đồng đều trên toàn bộ bề mặt &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;wafer&lt;/a&gt;, điều đó sẽ dẫn đến sự chênh lệch về độ dày của lớp phim quang học. Điều này sẽ gây ra những sai số về độ dày của wafer sau khi tiến hành quy trình etch; kết quả là wafer sẽ bị coi là vật liệu không thể sử dụng được nữa.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Đèn nung resist tia UV sâu (DUV)</title>
				<link>http://warm-ir-halogen.com/vi/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 05 Jun 2026 01:45:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-halogen.com/vi/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Đèn nung resist tia UV sâu (DUV)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên sàn &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;lithography&lt;/a&gt;, bạn biết quy trình: một lần nướng lệch chỉ nửa độ cũng làm lệch kiểm soát CD. Bạn cho DUV photoresist qua quá trình nướng mềm và nướng cứng để loại bỏ dung môi và cố định hình dạng. Nếu ngân sách nhiệt không đúng, các đường sẽ phình ra, độ gồ ghề của cạnh tăng lên, và toàn bộ lô hàng sẽ ngay lập tức báo đỏ. Đèn nướng DUV được thiết kế để loại bỏ sự biến động này.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
