<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>R7s on Warm IR Halogen Heating</title>
		<link>http://warm-ir-halogen.com/uk/tags/r7s/</link>
		<description>Recent content in R7s on Warm IR Halogen Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 02:45:33 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-halogen.com/uk/tags/r7s/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа інфрачервоного нагріву R7s для фабрики</title>
				<link>http://warm-ir-halogen.com/uk/posts/r7s-infrared-heating-bulb-for-fab/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 02:45:33 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-halogen.com/uk/posts/r7s-infrared-heating-bulb-for-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Лампа інфрачервоного нагріву R7s для фабрики&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На поверхні апарату для літографії навіть зміна температури на 2°C під час процесу висушування фоторезисту може призвести до зміни критичних розмірів на кілька нанометрів, що призводить до того, що багато пластин стають непридатними для подальшого використання. Інфрачервоний нагрівач R7s розроблений так, щоб тепло поширювалося саме в потрібному місці, а не по всій поверхні апарату.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим у цьому пристрої&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;R7s випромінює короткохвильове інфрачервоне світло, яке безпосередньо нагріває фоторезист та підкладку. Рівень температури швидко досягає необхідного значення та залишається стабільним. Рівномірність температури на всій поверхні пластини становить ±0,1°C, що дозволяє отримувати стабільні результати під час процесу висушування.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
