Bake on Warm IR Halogen Heating

Елемент нагріву для м якого випалювання в літографії

Sat, 04 Jul 2026 05:28:26 +0800

Чому для процедури м’якого випалювання потрібні спеціальні нагрівачі
Ми виробляємо нагрівальні елементи для процедури м’якого випалювання, призначені саме для початкової стадії виробництва пластин. Суть проста: необхідно підтримувати температуру саме там, де це потрібно під час затвердіння фотолаку.
Адже різниця у один градус може призвести до втрати всієї партії продукції. Тож ми створили наші нагрівачі на основі високоякісних галогенних ламп. Вони забезпечують стабільне тепло саме там, де це необхідно, і ніде більше.

Енергія, напруга та обсяг приміщення
Ці нагрівачі розроблені для використання в обмежених просторах. Вони працюють при високій напрузі та високій щільності, тож можуть розміщуватися в компактних приміщеннях без втрати ефективності.
Напруга 400 В забезпечує необхідну потужність у компактних розмірах – наприклад, 300 мм кварцової трубки. Цей вибір напруги зменшує струм, що дозволяє уникнути використання великих провідників, а також зменшує температуру клем.
Потужність 2500 В дозволяє швидко досягти необхідної температури та підтримувати її навіть під час активної роботи.
Щодо фізичних розмірів – вони відповідають стандартним параметрам обладнання для літографії, тож їх можна без проблем встановити на місце існуючого обладнання.

Лампа для випалювання фотoresисту забезпечує однорідність процесу

Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800

На цеху літографії процеси „м’якого“ та „жорсткого“ випалювання є ключовими етапами, під час яких формується або порушується профіль фотополімеру. Якщо процес випалювання не є однорідним по всій поверхні пластини, це призводить до змін її товщини. Це згодом проявляється у відхиленнях параметрів CD після етчування, а пластина стає непридатною до подальшого використання.

Що є важливим у цьому процесі
Ми створили лампу для випалювання фотополімеру на основі массиву джерел короткочастотного інфрачервоного світла, поєднаного з кварцовим склом, зміцненим вуглецевими волокнами. Це забезпечує однорідність температури на поверхні пластини до рівня ±0,1°C, а повторюваність температури залишається в межах ±0,5°C між циклами. Массив з 16 датчиків дозволяє контролювати профіль температури в закритому циклі, що забезпечує стабільні умови для випаровування розчинника з фотополімеру без перевищення заданих значень. Лампа працює 24/7 у чистих приміщеннях класу 1–100 та не створює жодних частинок; це підтверджується показниками кількості частинок, які залишаються нижче 0,01/см².

Глибокий УФ (ДУФ) лампа для випікання резисту

Fri, 05 Jun 2026 01:45:43 +0800

На площині літографії ви знаєте, як це працює: випікання, яке відхиляється навіть на півградуса, виводить контроль CD з норми. Ви пропускаєте DUV фотополімер через м’яке та тверде випікання, щоб видалити розчинник і зафіксувати профіль. Якщо термічний бюджет порушено, лінії розширюються, шорсткість країв зростає, і вся партія раптом потрапляє в червону зону. Лампа для випікання DUV резисту призначена для усунення цієї варіативності.

Що дійсно важливо в основі Ми створили цю лампу, щоб вивільняти енергію коротких хвиль там, де DUV резист дійсно її поглинає, з кварцовими частинами, які підтримують стабільність спектра. По всій поверхні чіпа, однорідність на рівні пластини тримається в межах ±0,1°C, тому кожна пластина в партії має однакову історію температури. Поведінка у чистій кімнаті не є додатковою думкою—приміщення класу 1–100 не бачать жодного збільшення часток, а гаряча зона залишається зосередженою, тому вивітрювання не може забруднити резист. Вихід повторюється протягом тисяч циклів випікання, а теплову масу контролюють, щоб уникнути дрейфу, коли лінія працює 24/7.