http://warm-ir-halogen.com/pt/tags/fotorevers%C3%ADvel/ Recent content in Fotoreversível on Warm IR Halogen Heating Hugo pt Sat, 27 Jun 2026 01:53:07 +0800 http://warm-ir-halogen.com/pt/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/ Sat, 27 Jun 2026 01:53:07 +0800 http://warm-ir-halogen.com/pt/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-halogen.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Lâmpada de secagem para fotoresisto de uniformidade"></p> <p>Na área de litografia, o processo de “soft bake” e “hard bake” é quando o perfil do fotoreativo é definido ou alterado. Se o processo de aquecimento não for uniforme em toda a superfície da wafer, ocorrem variações de espessura. Isso se reflete posteriormente como desvios no diâmetro da wafer após o processo de gravação, fazendo com que a wafer seja descartada.</p> <p><strong>O que é importante por trás disso tudo</strong><br> Construímos a lâmpada utilizada para o processo de aquecimento do fotoreativo com base em um array de emissores de luz de onda curta no infravermelho, combinado com uma janela de quartzo reforçada com fibra de carbono. Isso permite manter uma uniformidade térmica de ±0,1°C na superfície da wafer, e a repetibilidade da temperatura fica dentro de ±0,5°C de ciclo para ciclo. Um array de 16 sensores permite controlar o processo em um circuito fechado, garantindo um equilíbrio térmico estável, o que ajuda a retirar o solvente do fotoreativo sem causar excessos de temperatura. A lâmpada funciona 24/7 em salas limpas de classe 1–100, sem gerar nenhuma partícula, conforme verificado por contagens de partículas inferiores a 0,01/cm².</p>