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		<title>Calor on Warm IR Halogen Heating</title>
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				<title>Calor de alta precisão para IR de wafer</title>
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				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 02:00:37 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Calor de alta precisão para IR de wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na linha de produção, a litografia avança no seu próprio ritmo – não é possível pausar o processo enquanto ele está em andamento. Se a temperatura IR variar durante o processo de aquecimento do fotoresisto, surgem problemas relacionados às dimensões críticas dos componentes, o que afeta a qualidade final dos produtos. O que é necessário é um calor constante e uniforme em toda a superfície da placa, com um perfil térmico repetível a cada vez que a placa passa pela estação de tratamento.&lt;/p&gt;</description>
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