Assar on Warm IR Halogen Heating

Elemento de aquecimento para processo de litografia de cozimento suave

Sat, 04 Jul 2026 05:28:25 +0800

Por que um equipamento de aquecimento para processo de “soft bake” precisa de um elemento de aquecimento adequado para essa finalidade?
Nós fabricamos elementos de aquecimento específicos para o processo de “soft bake” em litografia, especialmente para a fase inicial da produção dos wafers. A ideia é simples: manter o calor exatamente onde ele é necessário, durante o processo de cura do fotoresista.

A realidade é que, se houver um erro de um grau na temperatura, tudo pode ser estragado. Por isso, desenvolvemos nossos elementos de aquecimento com tubos de halogênio de alta densidade. Eles fornecem calor constante e previsível, exatamente onde o processo requer, sem desperdiçar energia em outros lugares.

Lâmpada de secagem para fotoresisto de uniformidade

Sat, 27 Jun 2026 01:53:07 +0800

Na área de litografia, o processo de “soft bake” e “hard bake” é quando o perfil do fotoreativo é definido ou alterado. Se o processo de aquecimento não for uniforme em toda a superfície da wafer, ocorrem variações de espessura. Isso se reflete posteriormente como desvios no diâmetro da wafer após o processo de gravação, fazendo com que a wafer seja descartada.

O que é importante por trás disso tudo
Construímos a lâmpada utilizada para o processo de aquecimento do fotoreativo com base em um array de emissores de luz de onda curta no infravermelho, combinado com uma janela de quartzo reforçada com fibra de carbono. Isso permite manter uma uniformidade térmica de ±0,1°C na superfície da wafer, e a repetibilidade da temperatura fica dentro de ±0,5°C de ciclo para ciclo. Um array de 16 sensores permite controlar o processo em um circuito fechado, garantindo um equilíbrio térmico estável, o que ajuda a retirar o solvente do fotoreativo sem causar excessos de temperatura. A lâmpada funciona 24/7 em salas limpas de classe 1–100, sem gerar nenhuma partícula, conforme verificado por contagens de partículas inferiores a 0,01/cm².

Lâmpada de cozimento para resistores de UV profundo (DUV)

Fri, 05 Jun 2026 01:45:42 +0800

No chão de litografia, você sabe como funciona: um ciclo de cozimento que varia até mesmo meio grau desvia o controle de CD do especificado. Você passa o fotoresiste DUV por um cozimento suave e um cozimento duro para remover o solvente e fixar o perfil. Se o orçamento térmico estiver fora, as linhas se alargam, a rugosidade das bordas aumenta, e todo o lote de repente fica fora dos padrões. A lâmpada de cozimento do resist DUV está lá para eliminar essa variabilidade.