Energie on Warm IR Halogen Heating

Energie efficiënte waferverwarmer

Mon, 20 Jul 2026 09:10:49 +0800

Voorkom dat uw infraroodlampen uw wafers beschadigen

Het uitvoeren van productiecycli met hoge belasting is zwaar voor infraroodverwarminglampen. Ze worden ernstig onder druk gezet.
Als een lamp uiteindelijk het begiftigt – of erger nog: explodeert in de verwarmerkamer – is dat een nachtmerrie. U heeft dan overal stukjes kwarts en andere restanten. Dat beschadigt niet alleen de chip die u aan het bewerken bent, maar het verstoort ook al uw werkzaamheden, omdat u de hele productielijn moet stopzetten om het groene tapijt op te ruimen.

Energiebesparende halfgeleiderverwarming

Tue, 14 Jul 2026 11:46:44 +0800

Waarom we de ovens vervangen door IR-technologie voor het drogen van componenten

Laten we eerlijk zijn: de oude manier om halfgeleiders te drogen – namelijk ze in een enorme convectieoven te plaatsen – werkt steeds minder goed. We gaan nu steeds vaker gebruikmaken van IR-technologie. Het gaat niet alleen om het nakomen van milieuregels of het vermijden van lood; het komt ook doordat convectie gewoon inefficiënt is.

Stel je eens voor: met geforceerde lucht moet je een grote hoeveelheid lucht opwarmen om de warmte naar het chipje te krijgen. Dat is veel verspilde energie. Met IR-technologie hoef je deze stap over te slaan. De energie wordt rechtstreeks naar het materiaal gestuurd. Geen wachten meer nodig.

Energieaudit voor fabrieksdroging

Sat, 20 Jun 2026 02:33:29 +0800

Op de productielijn is zelfs een kleine afwijking tijdens het drogenstappen voldoende om de specificaties van de fotorezystlaag te verstoren. Hierdoor moet men de wafer’s weggooien en wordt er onnodig veel energie verbruikt. En die energieverliezen? Die stapelen zich op door inefficiënte verhittingssystemen en alle benodigde herkalibraties. Wij hebben een thermisch systeem ontwikkeld dat beide problemen tegengaat: het verminderd het energieverbruik, terwijl het de benodigde temperatuur toch behoudt voor de lithografieproces.

Wat technisch gezien belangrijk is Tijdens het droogproces houden we de uniformiteit op het niveau van de individuele wafer’s binnen ±0,1°C. Hierdoor blijven zowel het zachte als het harde droogproces volgens de voorgeschreven parameters verlopen. Het systeem kan worden gebruikt in schone ruimtes van klasse 1–100, zonder dat er partikels vrijkomen. Dit beschermt de kwaliteit van de wafer’s bij cruciale productiestappen. De verhittingsarchitectuur is ontworpen om 24/7 te werken, zonder onverwachte stilstanden. De levensduur van het systeem is meer dan 10.000 uur.