Tenaga on Warm IR Halogen Heating

Pemanas wafer yang cekap dari segi penggunaan tenaga

Mon, 20 Jul 2026 09:10:49 +0800

Hentikan lampu inframerah daripada merosakkan wafer anda

Proses pengeluaran yang memerlukan beban kerja yang tinggi sangat memberi tekanan pada lampu pemanas inframerah. Lampu-lampu ini akan cepat rosak. Apabila lampu tersebut akhirnya rosak – atau lebih teruk lagi, meletup di dalam bilik pemanasan – ia akan menyebabkan masalah besar. Anda akan mendapat serpihan kuarza dan sisa-sisa filamen di mana-mana. Ini bukan sahaja merosakkan wafer yang sedang diproses, tetapi juga mengganggu keseluruhan proses pengeluaran, kerana anda perlu menghentikan operasi keseluruhan sistem untuk membersihkan kekacauan tersebut.

Pemanasan berasaskan semikonduktor yang menjimatkan tenaga

Tue, 14 Jul 2026 11:46:43 +0800

Mengapa Kita Menggantikan Penggunaan Oven Konvensional Dengan Kaedah Penyembuhan menggunakan Gelombang Infra Merah
Mari kita jujur: cara lama untuk mengeringkan bahan semikonduktor—iaitu dengan meletakkannya dalam oven konvensional yang besar—sudah tidak lagi efektif. Kebanyakan orang kini beralih kepada kaedah penyembuhan menggunakan gelombang inframerah. Ini bukan sekadar untuk mematuhi standard alam sekitar atau menghilangkan penggunaan plumbum; ia juga kerana kaedah konvensional itu sendiri kurang efisien.

Fikirkanlah. Dengan menggunakan udara panas, kita perlu memanaskan sejumlah besar udara terlebih dahulu agar haba dapat sampai ke permukaan wafer. Ini merupakan pembaziran tenaga yang besar. Sebaliknya, gelombang inframerah dapat menghantar tenaga secara langsung ke permukaan bahan tersebut tanpa perlu melalui udara panas. Tidak perlu menunggu lama.

Ujian penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang

Sat, 20 Jun 2026 02:33:29 +0800

Di kilang pembuatan semikonduktor, sedikit perubahan semasa proses pengeringan sahaja sudah cukup untuk menyebabkan profil fotorezistor tidak memenuhi spesifikasi yang ditetapkan. Akibatnya, wafer tersebut perlu dibuang, dan tenaga yang digunakan menjadi sia-sia. Pembuangan tenaga ini berlaku secara berterusan akibat kitaran pemanasan yang tidak efisien serta proses penyesuaian yang diperlukan. Kami telah mencipta sistem pemanasan yang dapat menangani kedua-dua masalah ini: ia mengurangkan penggunaan tenaga sambil memastikan suhu kekal stabil untuk proses litografi.

Apa yang penting dari segi teknikal
Kita memastikan keseragaman suhu pada tahap wafer berada dalam lingkungan ±0.1°C, supaya proses pemanasan dapat berjalan dengan lancar. Sistem ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100 tanpa menghasilkan sebarang zarah yang boleh merosakkan kualiti wafer. Reka bentuk pemanasnya direka untuk beroperasi 24/7, tanpa sebarang masa henti yang tidak dijangka, dengan jangka hayat melebihi 10,000 jam.