<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>R7s on Warm IR Halogen Heating</title>
		<link>http://warm-ir-halogen.com/ms/tags/r7s/</link>
		<description>Recent content in R7s on Warm IR Halogen Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 02:45:33 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-halogen.com/ms/tags/r7s/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas inframerah R7s untuk kegunaan di kilang.</title>
				<link>http://warm-ir-halogen.com/ms/posts/r7s-infrared-heating-bulb-for-fab/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 02:45:33 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-halogen.com/ms/posts/r7s-infrared-heating-bulb-for-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas inframerah R7s untuk kegunaan di kilang.&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 2°C &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;semasa&lt;/a&gt; proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk mengubah dimensi komponen tersebut dengan beberapa nanometer. Ini akan menyebabkan banyak wafer menjadi tidak berguna. Lampu pemanas inframerah R7s direka untuk memastikan suhu tetap stabil di kawasan yang ditentukan, bukannya tersebar ke seluruh kawasan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam proses ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;R7s menggunakan gelombang inframerah pendek untuk memanaskan bahan fotoresist dan substrat, sehingga haba dapat disalurkan secara langsung ke kawasan yang diperlukan. Suhu yang dihasilkan adalah stabil, pada tahap ±0.1°C. Ini memastikan proses pemanasan berjalan dengan konsisten dari satu batch ke batch yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
