Pemanasan on Warm IR Halogen Heating

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Tue, 28 Jul 2026 03:15:03 +0800

Pemanasan menggunakan gelombang inframerah berbanding udara panas: Yang mana yang lebih baik untuk memanaskan wafer anda?

Jika anda beralih daripada penggunaan udara panas kepada pemanasan menggunakan gelombang inframerah untuk proses pemprosesan wafer, ini bermakna anda sedang mengubah cara pemindahan haba ke permukaan wafer tersebut.

Bayangkan penggunaan udara panas – anda memanaskan udara, kemudian meniupnya ke sekeliling bilik pemprosesan. Anda perlu menunggu sehingga udara tersebut dapat memindahkan tenaganya kepada wafer. Proses ini sangat lambat, dan terdapat kelewatan yang boleh dirasai.

Pemanasan berasaskan semikonduktor yang menjimatkan tenaga

Tue, 14 Jul 2026 11:46:43 +0800

Mengapa Kita Menggantikan Penggunaan Oven Konvensional Dengan Kaedah Penyembuhan menggunakan Gelombang Infra Merah
Mari kita jujur: cara lama untuk mengeringkan bahan semikonduktor—iaitu dengan meletakkannya dalam oven konvensional yang besar—sudah tidak lagi efektif. Kebanyakan orang kini beralih kepada kaedah penyembuhan menggunakan gelombang inframerah. Ini bukan sekadar untuk mematuhi standard alam sekitar atau menghilangkan penggunaan plumbum; ia juga kerana kaedah konvensional itu sendiri kurang efisien.

Fikirkanlah. Dengan menggunakan udara panas, kita perlu memanaskan sejumlah besar udara terlebih dahulu agar haba dapat sampai ke permukaan wafer. Ini merupakan pembaziran tenaga yang besar. Sebaliknya, gelombang inframerah dapat menghantar tenaga secara langsung ke permukaan bahan tersebut tanpa perlu melalui udara panas. Tidak perlu menunggu lama.

Meja pemanas yang kalis air IP44

Sat, 11 Jul 2026 05:29:38 +0800

Memastikan Keselamatan Ketika Panas Bertemu Air

Sejujurnya, meletakkan pemanas inframerah berkuasa tinggi di kawasan mandi merupakan tindakan yang berisiko tinggi—seolah-olah bermain dengan api. Di satu sisi ada haba yang sangat panas, manakala di sisi lain pula terdapat wap dan air yang boleh membasahi permukaan pemanas tersebut. Ini pasti akan menimbulkan masalah jika reka bentuknya tidak betul.

Itulah sebabnya kami mencipta papan pemanas yang tahan air, yang memenuhi standard IP44. Dengan kata mudah, ia bermaksud bahawa penutup papan pemanas tersebut cukup ketat untuk menghalang kotoran kecil daripada masuk ke dalamnya. Lebih penting lagi, ia mampu menahan air yang membasahi permukaannya dari segala arah tanpa rosak.

Elemen pemanas pengganti kelas keselamatan IP65

Fri, 10 Jul 2026 02:01:14 +0800

Hentikan pembaziran masa untuk mengganti pemanas

Sejujurnya, sistem inframerah industri biasanya tidak rosak kerana pemanas itu sendiri yang bermasalah. Masalahnya ialah proses penggantian tiub pemanas yang sangat menyusahkan.

Bayangkan ini: tiub pemanas rosak setelah lima tahun digunakan. Sekarang anda perlu membuat keputusan—adakah anda perlu membongkar keseluruhan komponen tersebut? Atau adakah anda sanggup merosakkan komponen lain hanya untuk mengganti satu komponen sahaja? Ini merupakan masalah yang sangat menyusahkan.

Itulah sebabnya kami mencipta modul IP65. Kami ingin mengelakkan kekecewaan seperti ini sepenuhnya.

Elemen pemanas untuk proses pembakaran lembut dalam litografi

Sat, 04 Jul 2026 05:28:26 +0800

Mengapa pemanas khusus diperlukan untuk proses pembakaran lembut
Kami menghasilkan elemen pemanas khusus untuk proses pembakaran lembut dalam teknologi litografi, terutamanya untuk peringkat awal pengeluaran wafer. Tujuannya sangat mudah: memastikan suhu yang tepat pada tempat yang diperlukan semasa proses pengeringan bahan fotoresist berlangsung.

Realitinya, sedikit saja kesilapan dalam pengukuran suhu boleh menyebabkan seluruh proses gagal. Oleh itu, kami menggunakan tiub halogen berkepadatan tinggi sebagai komponen pemanas. Tiub ini mampu menghasilkan haba yang stabil dan konsisten di tempat yang diperlukan, tanpa mengganggu proses lain.

Lampu pemanas inframerah R7s untuk kegunaan di kilang.

Fri, 19 Jun 2026 02:45:33 +0800

Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk mengubah dimensi komponen tersebut dengan beberapa nanometer. Ini akan menyebabkan banyak wafer menjadi tidak berguna. Lampu pemanas inframerah R7s direka untuk memastikan suhu tetap stabil di kawasan yang ditentukan, bukannya tersebar ke seluruh kawasan.

Apa yang penting dalam proses ini
R7s menggunakan gelombang inframerah pendek untuk memanaskan bahan fotoresist dan substrat, sehingga haba dapat disalurkan secara langsung ke kawasan yang diperlukan. Suhu yang dihasilkan adalah stabil, pada tahap ±0.1°C. Ini memastikan proses pemanasan berjalan dengan konsisten dari satu batch ke batch yang lain.

Lampu pemanas untuk evaporator Evatec

Thu, 18 Jun 2026 01:31:05 +0800

Di bilik pengeluaran, faktor suhu yang tidak stabil akan mengurangkan kualiti produk yang dihasilkan. Suhu sebanyak 0.5°C pada permukaan wafer semasa proses pemanasan bahan fotoresist, atau masalah dengan lampu yang digunakan untuk proses penguapan, boleh menyebabkan proses yang sepatutnya boleh diulang menjadi tidak konsisten. Kami telah mencipta lampu pemanas Evatec untuk mengatasi masalah ini.

Apa yang penting dari segi teknikal: Lampu ini menggunakan pemancar halogen berfrekuensi tinggi yang terletak di dalam selubung kuarza. Ini membolehkan panas yang dihasilkan berlaku dengan cepat dan tepat, dengan masa tindak balas kurang dari satu saat. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C, dan kekonsistenan suhu tetap baik sepanjang proses pemanasan. Reka bentuk ini juga mengelakkan berlakunya partikel berbahaya, sehingga tahap kebersihan di bilik pengeluaran tetap pada tahap yang dikehendaki. Lampu ini boleh beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dan prestasinya tetap stabil walaupun selepas 5,000 jam operasi – penurunan prestasi kurang dari 5%.