http://warm-ir-halogen.com/ms/tags/ketepatan/ Recent content in Ketepatan on Warm IR Halogen Heating Hugo ms Sun, 12 Jul 2026 06:10:51 +0800 http://warm-ir-halogen.com/ms/posts/precision-ir-sensor-for-wafer/ Sun, 12 Jul 2026 06:10:51 +0800 http://warm-ir-halogen.com/ms/posts/precision-ir-sensor-for-wafer/ <p><img src="http://warm-ir-halogen.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Penderia IR yang tepat untuk wafer"></p> <p><strong>Mengelakkan Wafer daripada Kotor Apabila Lampu IR Mengalami Kegagalan</strong><br> Sejujurnya, dalam sistem semikonduktor yang memerlukan beban kerja yang tinggi, kegagalan lampu merupakan <a href="https://goldisgood.com">masalah</a> yang serius. Ia bukan sekadar komponen yang boleh diganti dalam masa lima minit sahaja. Keadaan ini akan menyebabkan kekacauan besar. Apabila tiub kuarza pecah, serpihan kaca dan gas halogen akan <a href="https://o-yate.net">jatuh</a> ke atas wafer tersebut. Ini bermakna keseluruhan batch wafer tersebut akan rosak, dan proses pembersihan ruang khusus tersebut menjadi sangat rumit.</p> <p>Kami mencipta lampu IR yang tahan lama agar perkara seperti ini tidak berlaku.</p> http://warm-ir-halogen.com/ms/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/ Sun, 28 Jun 2026 02:00:38 +0800 http://warm-ir-halogen.com/ms/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/ <p><img src="http://warm-ir-halogen.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Suhu yang sangat tepat untuk proses IR pada wafer."></p> <p>Di bilik pengeluaran, proses litografi berjalan mengikut rentaknya sendiri – kita tidak boleh menghentikan proses tersebut <a href="https://goldisgood.com">apabila</a> ia sedang berlangsung. Jika suhu IR berubah semasa proses pemanasan fotoresist, maka akan timbul masalah berkaitan perubahan dimensi komponen yang dihasilkan, dan ini akan menjejaskan kualiti produk. Apa yang diperlukan ialah suhu yang stabil dan seragam di seluruh permukaan wafer, serta pola suhu yang konsisten setiap kali wafer diproses.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Kita menggunakan pemanas IR yang mampu menghantar haba dengan tepat ke tempat yang diperlukan oleh fotoresist, menggunakan sumber inframerah gelombang pendek yang sesuai dengan proses pengeluaran. Di seluruh permukaan wafer, suhu haruslah seragam dalam lingkungan ±0.1°C, manakala ketepatan suhu pula haruslah dalam lingkungan ±0.2°C. Dengan cara ini, setiap kumpulan wafer akan diproses dengan cara yang sama. Reka bentuk pemanas berasaskan kuarsa memastikan tiada <a href="https://o-yate.net">pembentukan</a> zarah-zarah kecil, dan ia juga sesuai untuk digunakan di bilik bersih tahap 1–100. Sistem kawalan tertutup yang digabungkan dengan sensor kelas A memastikan penyimpangan suhu tidak melebihi 0.5°C, sekali gus melindungi komponen-komponen sensitif sambil memastikan proses pengeluaran berjalan dengan cepat.</p>