IR on Warm IR Halogen Heating

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Tue, 28 Jul 2026 03:07:58 +0800

Hentikan pembaziran masa untuk memanaskan udara

Jika anda pernah bekerja dalam proses pengeluaran semikonduktor yang menggunakan sistem pemanasan udara, pasti anda tahu betapa menjengkelkannya cara ini. Prosesnya sangat lambat. Anda perlu menunggu sehingga seluruh oven mencapai suhu yang diinginkan sebelum bahan kerja dapat dipanaskan. Ia sama seperti cuba memanaskan bilik menggunakan pemanas udara sebelum anda boleh mula memasak.

Kami menggunakan cara yang berbeza. Kami menggunakan lampu IR yang digabungkan dengan reflektor aluminium. Daripada memanaskan udara, haba tersebut akan disalurkan terus ke bahan kerja.

Hujung kaca seramik untuk pemancar IR

Sun, 19 Jul 2026 09:44:48 +0800

Hentikan masalah “hujan kaca”: Mengapa pengeluarkan cahaya jenis IR memerlukan penutup berbahan seramik
Di kilang semikonduktor yang beroperasi pada skala besar, kegagalan tiub kuarsa bukan sekadar masalah kecil – ia merupakan bencana sebenar. Bayangkanlah jika pengeluarkan cahaya jenis IR meletup tepat di atas wafer silikon. Anda bukan sahaja akan menghadapi masa henti operasi yang panjang, tetapi juga serpihan kaca dan serpihan logam yang akan jatuh ke atas permukaan wafer tersebut. Satu letupan saja sudah cukup untuk menyebabkan kerosakan yang meluas.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Sun, 12 Jul 2026 06:10:51 +0800

Mengelakkan Wafer daripada Kotor Apabila Lampu IR Mengalami Kegagalan
Sejujurnya, dalam sistem semikonduktor yang memerlukan beban kerja yang tinggi, kegagalan lampu merupakan masalah yang serius. Ia bukan sekadar komponen yang boleh diganti dalam masa lima minit sahaja. Keadaan ini akan menyebabkan kekacauan besar. Apabila tiub kuarza pecah, serpihan kaca dan gas halogen akan jatuh ke atas wafer tersebut. Ini bermakna keseluruhan batch wafer tersebut akan rosak, dan proses pembersihan ruang khusus tersebut menjadi sangat rumit.

Kami mencipta lampu IR yang tahan lama agar perkara seperti ini tidak berlaku.

Suhu yang sangat tepat untuk proses IR pada wafer.

Sun, 28 Jun 2026 02:00:38 +0800

Di bilik pengeluaran, proses litografi berjalan mengikut rentaknya sendiri – kita tidak boleh menghentikan proses tersebut apabila ia sedang berlangsung. Jika suhu IR berubah semasa proses pemanasan fotoresist, maka akan timbul masalah berkaitan perubahan dimensi komponen yang dihasilkan, dan ini akan menjejaskan kualiti produk. Apa yang diperlukan ialah suhu yang stabil dan seragam di seluruh permukaan wafer, serta pola suhu yang konsisten setiap kali wafer diproses.

Apa yang penting dari segi teknikal
Kita menggunakan pemanas IR yang mampu menghantar haba dengan tepat ke tempat yang diperlukan oleh fotoresist, menggunakan sumber inframerah gelombang pendek yang sesuai dengan proses pengeluaran. Di seluruh permukaan wafer, suhu haruslah seragam dalam lingkungan ±0.1°C, manakala ketepatan suhu pula haruslah dalam lingkungan ±0.2°C. Dengan cara ini, setiap kumpulan wafer akan diproses dengan cara yang sama. Reka bentuk pemanas berasaskan kuarsa memastikan tiada pembentukan zarah-zarah kecil, dan ia juga sesuai untuk digunakan di bilik bersih tahap 1–100. Sistem kawalan tertutup yang digabungkan dengan sensor kelas A memastikan penyimpangan suhu tidak melebihi 0.5°C, sekali gus melindungi komponen-komponen sensitif sambil memastikan proses pengeluaran berjalan dengan cepat.