Fab on Warm IR Halogen Heating

Penyelesaian pembuatan pakaian yang mampan

Sun, 26 Jul 2026 14:02:51 +0800

Mengapa Pemanasan IR Lebih Baik Daripada Penggunaan Udara Panas Dalam Proses Pembuatan Semikonduktor
Jika anda bekerja dalam bidang pembuatan semikonduktor, anda pasti tahu bahawa masa merupakan faktor yang paling penting. Setiap saat yang dihabiskan oleh wafer untuk menunggu sampai mencapai suhu yang sesuai merupakan kerugian kewangan yang besar.

Kebanyakan orang menggunakan kaedah penggunaan udara panas untuk memanaskan bahan tersebut. Namun, terdapat masalah utama dengan kaedah ini. Anda perlu memanaskan seluruh bilik hanya untuk memanaskan satu objek kecil sahaja. Anda perlu menunggu sehingga udara bergerak, dinding bilik menyerap haba tersebut, dan suhu di dalam bilik stabil sebelum substrat dapat merasai kesan pemanasan tersebut. Ia merupakan proses yang memakan masa.

Pengeluar lampu pengeringan inframerah yang berdaftar.

Sat, 25 Jul 2026 03:02:23 +0800

Berhenti risau tentang masalah kebocoran elektrik pada lampu inframerah anda

Apabila anda menyambungkan lampu inframerah berkuasa tinggi ke sistem pengeluaran, perkara yang sering menjadi kebimbangan ialah haba yang dihasilkan oleh lampu tersebut. Namun sebenarnya, masalah sebenar ialah kebocoran elektrik.

Cuma satu lubang kecil pada bahan kuarsa atau kesan penyambungan yang tidak sempurna pun sudah cukup untuk menyebabkan litar pintas. Ini boleh merosakkan seluruh sistem, atau dalam kes yang paling teruk, merosakkan badan mesin itu sendiri. Tiada siapa yang ingin menerima panggilan seperti ini pada petang hari Selasa.

Perisai kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi

Sat, 25 Jul 2026 02:47:36 +0800

Elakkan Lampu Berhenti Berfungsi daripada Merosakkan Hasil Pengeluaran Anda

Dalam kilang semikonduktor yang sibuk, lampu yang rosak sudah pun merupakan masalah yang menyusahkan. Namun, keadaan akan menjadi lebih teruk jika selubung kaca tersebut pecah.

Apabila ini berlaku, serpihan tungsten dan serpihan kaca akan jatuh terus ke atas wafer tersebut. Ini merupakan situasi yang sangat buruk. Anda bukan sahaja perlu menghadapi masa henti operasi, tetapi juga risiko kontaminasi yang boleh memusnahkan keseluruhan hasil pengeluaran anda.

Kotak pemanas diperbuat daripada keluli tahan karat

Fri, 24 Jul 2026 09:35:22 +0800

Hentikan pembaziran tenaga: Mengapa penggunaan reflektor berlapis emas sangat penting

Ketika anda memanaskan wafer silikon, setiap watt tenaga yang digunakan sangat berharga. Kebanyakan orang menggunakan bahan aluminium atau keluli yang telah dipolis pada komponen pemanas tersebut. Namun masalahnya ialah bahan-bahan ini menyerap terlalu banyak tenaga. Anda sebenarnya membayar untuk tenaga yang hilang begitu saja, bukannya digunakan untuk tujuan pemanaian.

Itulah sebabnya kami menggunakan emas. Walaupun kedengaran mewah, namun ia merupakan pilihan yang praktikal. Emas merupakan bahan yang paling efektif untuk memantulkan haba inframerah kembali ke tempat asalnya, iaitu ke atas wafer.

Lampu inframerah diperbuat daripada serat karbon

Wed, 22 Jul 2026 02:57:10 +0800

Mengurangkan penggunaan karbon di kilang pengeluaran semikonduktor: Mengapa lampu inframerah berbahan karbon berkesan
Sejujurnya, kilang pengeluaran semikonduktor merupakan sumber tenaga yang sangat besar. Jika anda ingin mencapai sasaran karbon neutral, anda tidak boleh hanya mengubah sedikit peralatan yang digunakan. Anda perlu menangani masalah yang berkaitan dengan proses pemprosesan termal – iaitu tempat di mana tenaga elektrik hilang begitu saja.

Di sinilah lampu inframerah berbahan karbon memainkan peranan penting. Berbeza dengan pemanas biasa yang membuang tenaga secara sia-sia, lampu ini dapat melaksanakan tugasnya dengan lebih efisien.

Peningkatan peralatan bilik bersih di fasiliti pembuatan.

Fri, 10 Jul 2026 02:07:00 +0800

Mengekalkan Keselamatan Semasa Menggunakan Cahaya Inframerah di Zon Kimia
Jika anda ingin mengemaskini bilik bersih di fasiliti pengeluaran – khususnya stesen pembersihan kimia – anda pasti tahu betapa berbahayanya situasi tersebut. Anda bekerja dengan pelarut yang mudah terbakar dan wap-wap yang mudah meletup. Dalam persekitaran seperti ini, lampu inframerah biasa bukan sekadar alat, tetapi juga sumber bahaya. Sebuah percikan kecil atau retakan halus pada tiub kuarsa sahaja sudah cukup untuk mencetuskan bencana.

Kami tidak mahu mengambil risiko tersebut. Itulah sebabnya kami berhenti menggunakan sistem pemanasan jenis terbuka dan beralih kepada sistem pemanasan yang dilindungi dengan baik.

Alat ganti untuk peralatan pembuatan profesional

Thu, 02 Jul 2026 03:53:01 +0800

Di bilik pembakaran, perubahan suhu semasa proses pembakaran tidak akan ditunjukkan melalui lampu amaran. Sebaliknya, perubahan tersebut akan ditunjukkan sebagai perubahan sebanyak 0.3% pada nilai CD, perubahan lebar garisan yang terbentuk, serta jumlah bahan yang rosak setelah tempoh pembaikan tamat. Apabila lampu dalam ketuhar menjadi usang, tetapan suhu masih boleh berfungsi dengan baik, walaupun permukaan wafer masih panas. Anda memerlukan alat ganti yang dapat mengekalkan prestasi termal yang stabil, dari satu sesi pembakaran ke sesi yang lain, dan dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain.

Ujian penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang

Sat, 20 Jun 2026 02:33:29 +0800

Di kilang pembuatan semikonduktor, sedikit perubahan semasa proses pengeringan sahaja sudah cukup untuk menyebabkan profil fotorezistor tidak memenuhi spesifikasi yang ditetapkan. Akibatnya, wafer tersebut perlu dibuang, dan tenaga yang digunakan menjadi sia-sia. Pembuangan tenaga ini berlaku secara berterusan akibat kitaran pemanasan yang tidak efisien serta proses penyesuaian yang diperlukan. Kami telah mencipta sistem pemanasan yang dapat menangani kedua-dua masalah ini: ia mengurangkan penggunaan tenaga sambil memastikan suhu kekal stabil untuk proses litografi.

Apa yang penting dari segi teknikal
Kita memastikan keseragaman suhu pada tahap wafer berada dalam lingkungan ±0.1°C, supaya proses pemanasan dapat berjalan dengan lancar. Sistem ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100 tanpa menghasilkan sebarang zarah yang boleh merosakkan kualiti wafer. Reka bentuk pemanasnya direka untuk beroperasi 24/7, tanpa sebarang masa henti yang tidak dijangka, dengan jangka hayat melebihi 10,000 jam.

Lampu pemanas inframerah R7s untuk kegunaan di kilang.

Fri, 19 Jun 2026 02:45:33 +0800

Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk mengubah dimensi komponen tersebut dengan beberapa nanometer. Ini akan menyebabkan banyak wafer menjadi tidak berguna. Lampu pemanas inframerah R7s direka untuk memastikan suhu tetap stabil di kawasan yang ditentukan, bukannya tersebar ke seluruh kawasan.

Apa yang penting dalam proses ini
R7s menggunakan gelombang inframerah pendek untuk memanaskan bahan fotoresist dan substrat, sehingga haba dapat disalurkan secara langsung ke kawasan yang diperlukan. Suhu yang dihasilkan adalah stabil, pada tahap ±0.1°C. Ini memastikan proses pemanasan berjalan dengan konsisten dari satu batch ke batch yang lain.

Pengering filem pemisah bateri kilang

Mon, 01 Jun 2026 00:11:09 +0800

Di lantai pembuatan, hanya beberapa darjah sahaja sudah cukup untuk mengubah operasi stabil menjadi anomali. Dalam proses litografi dan pemprosesan photoresist, langkah pembakaran bukan sekadar pemanasan awal. Ia adalah bajet terma yang menetapkan kawalan lebar garis, profil dinding sisi, dan tahap kecacatan. Apabila pengering tergelincir, anda akan melihat ketidaksamaan pembakaran lembut di seluruh wafer, pembentukan tepi pada corak, dan carryover pelarut yang menumbuhkan zarah. Akibatnya adalah skrap, kerja semula, dan waktu henti alat yang tidak dirancang.