Lampada per cottura resina DUV (Ultravioletto Profondo)

Fri, 05 Jun 2026 01:45:42 +0800

Sul piano di litografia, conosci il procedimento: una cottura che devia anche solo di mezzo grado compromette il controllo del CD. Esegui il trattamento del fotoresist DUV tramite soft bake e hard bake per eliminare il solvente e fissare il profilo. Se il budget termico è errato, le linee si allargano, la rugosità dei bordi aumenta e l’intero lotto è improvvisamente fuori specifica. La lampada di cottura per resist DUV è progettata per eliminare questa variabilità.

Ciò che conta realmente sotto il cofano Abbiamo costruito questa lampada per emettere energia a onde corte dove il resist DUV la assorbe effettivamente, con parti in quarzo che mantengono stabile lo spettro. Su tutta la superficie del chuck, l’uniformità a livello wafer rimane entro ±0,1°C, quindi ogni wafer nel lotto vede la stessa storia termica. Il comportamento in cleanroom non è una considerazione secondaria: gli spazi di Classe 1–100 non presentano picchi di particelle, e la zona calda rimane contenuta così che il degassamento non possa contaminare il resist. L’output si ripete per migliaia di cicli di cottura, e la massa termica è gestita per evitare deviazioni quando la linea funziona 24/7.

UV on Warm IR Halogen Heating

Lampada per cottura resina DUV (Ultravioletto Profondo)