Sovraccarico R7s per riscaldamento a infrarossi per fabbrica

Fri, 19 Jun 2026 02:45:32 +0800

Nelle stanze di litografia, un cambiamento di temperatura di 2°C durante il processo di essiccazione del fotoresist è sufficiente per far variare le dimensioni critiche dei componenti prodotti di alcuni nanometri, trasformando così molti wafer in rifiuti. La lampada a infrarossi R7s è stata progettata per mantenere la temperatura entro limiti precisi, evitando che questa vari in modo disomogeneo.

Cosa è importante
La lampada R7s emette raggi infrarossi a breve lunghezza d’onda, permettendo così di trasmettere il calore direttamente sul fotoresist e sul substrato. Il valore di temperatura desiderato viene raggiunto rapidamente e rimane costante nel tempo. La uniformità della temperatura su tutta la superficie del wafer è di ±0,1°C; questo garantisce risultati affidabili, batch dopo batch.

R7s on Warm IR Halogen Heating

Sovraccarico R7s per riscaldamento a infrarossi per fabbrica