<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Precisione on Warm IR Halogen Heating</title>
		<link>http://warm-ir-halogen.com/it/tags/precisione/</link>
		<description>Recent content in Precisione on Warm IR Halogen Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>it</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 12 Jul 2026 06:10:49 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-halogen.com/it/tags/precisione/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Sensore IR ad alta precisione per wafer</title>
				<link>http://warm-ir-halogen.com/it/posts/precision-ir-sensor-for-wafer/</link>
				<pubDate>Sun, 12 Jul 2026 06:10:49 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-halogen.com/it/posts/precision-ir-sensor-for-wafer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Sensore IR ad alta precisione per wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Come mantenere pulite le wafer quando le lampade a raggi infrarossi presentano problemi&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Siamo onesti: in un ambiente di lavorazione a carico elevato, il guasto di una lampada è davvero un disastro. Non si tratta semplicemente di un componente difettoso che può essere sostituito in pochi minuti… È un vero caos. Quando il tubo di quarzo si frantuma, i frammenti di vetro e il gas alcalino finiscono sulle wafer. In questo modo, l’intero lotto di prodotti viene rovinato, e bisogna pulire attentamente la camera di lavoro.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Calore ad alta precisione per IR dei wafer</title>
				<link>http://warm-ir-halogen.com/it/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 02:00:37 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-halogen.com/it/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Calore ad alta precisione per IR dei wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nella sala di produzione, la litografia procede al proprio ritmo: non si può fermare il processo mentre è in corso. Se la temperatura IR varia durante la fase di essiccazione del fotorest, si rischiano cambiamenti nelle dimensioni critiche dei componenti, con conseguente riduzione della qualità del prodotto. Quello che serve è un riscaldamento costante e uniforme su tutta la superficie del wafer, in modo che venga ripetuto sempre lo stesso profilo termico ogni volta che il wafer viene inserito nella stazione di trattamento.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
