Lampada per la cottura del fotoresistente a uniformità

Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800

Nella fase di litografia, i processi di “soft bake” e “hard bake” sono quelli che determinano se il profilo del fotorestist viene mantenuto o alterato. Se la temperatura non è uniforme su tutta la superficie del wafer, si verificano variazioni di spessore. Questo porta, in seguito, a deviazioni nella dimensione dei circuiti realizzati dopo l’etching; il wafer diventa quindi inutilizzabile.

Cosa è importante per ottimizzare il processo
Abbiamo progettato la lampada per il trattamento termico del fotorestist utilizzando un array di emettitori a onde corte nel campo infrarosso, abbinato a una finestra in quarzo rinforzata con fibra di carbonio. Questo sistema consente di mantenere un’omogeneità termica sul wafer entro ±0,1°C, mentre la ripetibilità della temperatura rimane entro ±0,5°C da ciclo a ciclo. Un array di 16 sensori permette di mantenere il profilo termico sotto controllo continuo, assicurando così una stabilizzazione delle condizioni termiche necessarie per eliminare i solventi dal fotorestist senza che vi siano sbalzi di temperatura. La lampada funziona 24/7 nelle stanze pulite di classe 1–100, senza generare alcuna particella, come confermato dai controlli effettuati che mostrano un numero di particelle inferiore a 0,01/cm².

Fotoresist on Warm IR Halogen Heating

Lampada per la cottura del fotoresistente a uniformità