Cuocere in Forno on Warm IR Halogen Heating

Elemento di riscaldamento per la cottura a bassa temperatura in litografia

Sat, 04 Jul 2026 05:28:26 +0800

Perché un dispositivo di riscaldamento per processi di tipo “soft bake” richiede un elemento riscaldante adatto allo scopo
Produrremo elementi riscaldanti specificamente per i processi di tipologia “soft bake” nella litografia, ovvero per le fasi iniziali della produzione dei wafer. L’obiettivo è semplice: mantenere il calore esattamente dove è necessario, durante la fase di essiccazione del fotorest.
La realtà è questa: anche un errore di un grado può far fallire l’intera produzione. Per questo motivo, abbiamo progettato i nostri elementi riscaldanti utilizzando tubi allogenici ad alta densità. Essi forniscono un calore costante e preciso esattamente dove è necessario, senza generare calore inutilizzato.

Lampada per la cottura del fotoresistente a uniformità

Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800

Nella fase di litografia, i processi di “soft bake” e “hard bake” sono quelli che determinano se il profilo del fotorestist viene mantenuto o alterato. Se la temperatura non è uniforme su tutta la superficie del wafer, si verificano variazioni di spessore. Questo porta, in seguito, a deviazioni nella dimensione dei circuiti realizzati dopo l’etching; il wafer diventa quindi inutilizzabile.

Cosa è importante per ottimizzare il processo
Abbiamo progettato la lampada per il trattamento termico del fotorestist utilizzando un array di emettitori a onde corte nel campo infrarosso, abbinato a una finestra in quarzo rinforzata con fibra di carbonio. Questo sistema consente di mantenere un’omogeneità termica sul wafer entro ±0,1°C, mentre la ripetibilità della temperatura rimane entro ±0,5°C da ciclo a ciclo. Un array di 16 sensori permette di mantenere il profilo termico sotto controllo continuo, assicurando così una stabilizzazione delle condizioni termiche necessarie per eliminare i solventi dal fotorestist senza che vi siano sbalzi di temperatura. La lampada funziona 24/7 nelle stanze pulite di classe 1–100, senza generare alcuna particella, come confermato dai controlli effettuati che mostrano un numero di particelle inferiore a 0,01/cm².

Lampada per cottura resina DUV (Ultravioletto Profondo)

Fri, 05 Jun 2026 01:45:42 +0800

Sul piano di litografia, conosci il procedimento: una cottura che devia anche solo di mezzo grado compromette il controllo del CD. Esegui il trattamento del fotoresist DUV tramite soft bake e hard bake per eliminare il solvente e fissare il profilo. Se il budget termico è errato, le linee si allargano, la rugosità dei bordi aumenta e l’intero lotto è improvvisamente fuori specifica. La lampada di cottura per resist DUV è progettata per eliminare questa variabilità.

Ciò che conta realmente sotto il cofano Abbiamo costruito questa lampada per emettere energia a onde corte dove il resist DUV la assorbe effettivamente, con parti in quarzo che mantengono stabile lo spettro. Su tutta la superficie del chuck, l’uniformità a livello wafer rimane entro ±0,1°C, quindi ogni wafer nel lotto vede la stessa storia termica. Il comportamento in cleanroom non è una considerazione secondaria: gli spazi di Classe 1–100 non presentano picchi di particelle, e la zona calda rimane contenuta così che il degassamento non possa contaminare il resist. L’output si ripete per migliaia di cicli di cottura, e la massa termica è gestita per evitare deviazioni quando la linea funziona 24/7.