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		<title>Calore on Warm IR Halogen Heating</title>
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		<description>Recent content in Calore on Warm IR Halogen Heating</description>
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				<title>Calore ad alta precisione per IR dei wafer</title>
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				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 02:00:37 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Calore ad alta precisione per IR dei wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nella sala di produzione, la litografia procede al proprio ritmo: non si può fermare il processo mentre è in corso. Se la temperatura IR varia durante la fase di essiccazione del fotorest, si rischiano cambiamenti nelle dimensioni critiche dei componenti, con conseguente riduzione della qualità del prodotto. Quello che serve è un riscaldamento costante e uniforme su tutta la superficie del wafer, in modo che venga ripetuto sempre lo stesso profilo termico ogni volta che il wafer viene inserito nella stazione di trattamento.&lt;/p&gt;</description>
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