Panggang on Warm IR Halogen Heating

Elemen pemanas untuk proses lithografi jenis soft bake .

Sat, 04 Jul 2026 05:28:26 +0800

Mengapa Pemanas Khusus Diperlukan untuk Proses Soft Bake
Kami membuat elemen pemanas khusus untuk proses soft bake dalam litografi, terutama untuk tahap awal pembuatan wafer. Tujuannya sangat sederhana: memastikan panas tersebar tepat di tempat yang diperlukan saat fotoresist mengeras.

Realitanya adalah, sedikit saja kesalahan dalam pengaturan suhu bisa menyebabkan kegagalan seluruh proses produksi. Oleh karena itu, kami menggunakan tabung halogen berkepadatan tinggi sebagai komponen pemanasnya. Tabung ini mampu menghasilkan panas yang stabil dan konsisten, tepat di tempat yang diperlukan, tanpa panas yang berlebihan di bagian lain.

Lampu pengering fotoresist untuk mencapai keseragaman

Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800

Di area litografi, proses “soft bake” dan “hard bake” merupakan tahap di mana profil lapisan fotoresist dibentuk atau diubah. Jika proses pemanasan tidak seragam di seluruh permukaan wafer, maka akan terjadi variasi ketebalan lapisan fotoresist. Hal ini akan berdampak pada perubahan ukuran wafer setelah proses etching, sehingga wafer tersebut menjadi tidak dapat digunakan lagi.

Apa yang penting dalam proses ini? Kami merancang lampu pemanas untuk lapisan fotoresist menggunakan array emitor cahaya inframerah berfrekuensi rendah, dikombinasikan dengan jendela kuarza yang diperkuat dengan serat karbon. Dengan demikian, suhu di permukaan wafer dapat dipertahankan pada tingkat keseragaman ±0,1°C, sedangkan tingkat repetitivitas suhu tetap berada dalam kisaran ±0,5°C antara setiap siklus pemanasan. Array sensor sebanyak 16 buah digunakan untuk mengontrol suhu secara presisi, sehingga lapisan fotoresist dapat dikeringkan dengan baik tanpa terjadi kelebihan panas. Lampu ini dapat beroperasi 24/7 di ruang bersih kelas 1–100, dan tidak menghasilkan partikel apa pun, sebagaimana terbukti dari jumlah partikel yang diukur kurang dari 0,01/cm².

Lampu pemanas resist DUV (Deep UV)

Fri, 05 Jun 2026 01:45:43 +0800

Di lantai litografi, Anda tahu prosedurnya: pemanggangan yang melenceng bahkan setengah derajat dapat membuat kontrol CD tidak sesuai spesifikasi. Anda menjalankan DUV photoresist melalui pemanggangan lunak dan keras untuk mengeluarkan pelarut dan mengunci profil. Jika anggaran termal tidak tepat, garis menjadi lebar, kekasaran tepi meningkat, dan seluruh lot tiba-tiba berada dalam zona merah. Lampu pemanggangan DUV resist ada untuk menghilangkan variabilitas tersebut dari tabel.

Apa yang sebenarnya penting di balik layar
Kami membangun lampu ini untuk mengalirkan energi gelombang pendek di tempat DUV resist benar-benar menyerapnya, dengan bagian kuarsa yang menjaga spektrum tetap stabil. Di seluruh chuck, keseragaman tingkat wafer tetap dalam ±0.1°C, sehingga setiap wafer dalam batch melihat riwayat suhu yang sama. Perilaku ruang bersih bukanlah pemikiran tambahan—ruang Kelas 1–100 tidak mengalami peningkatan partikel, dan zona panas tetap terkontrol sehingga gas yang keluar tidak dapat mencemari resist. Output terulang selama ribuan siklus pemanggangan, dan massa termal dikelola sehingga Anda tidak mengalami pergeseran saat lini beroperasi 24/7.