<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Keseragaman on Warm IR Halogen Heating</title>
		<link>http://warm-ir-halogen.com/id/tags/keseragaman/</link>
		<description>Recent content in Keseragaman on Warm IR Halogen Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-halogen.com/id/tags/keseragaman/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pengering fotoresist untuk mencapai keseragaman</title>
				<link>http://warm-ir-halogen.com/id/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-halogen.com/id/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lampu pengering fotoresist untuk mencapai keseragaman&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area litografi, proses “soft bake” dan “hard bake” &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;merupakan&lt;/a&gt; tahap di mana profil lapisan fotoresist dibentuk atau diubah. Jika proses pemanasan tidak seragam di seluruh permukaan wafer, maka akan terjadi variasi ketebalan lapisan fotoresist. Hal ini akan berdampak pada perubahan ukuran wafer setelah proses etching, sehingga wafer tersebut menjadi tidak dapat digunakan lagi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam proses ini?&lt;/strong&gt;&#xA;Kami merancang lampu pemanas untuk lapisan fotoresist menggunakan array emitor cahaya inframerah berfrekuensi rendah, dikombinasikan dengan jendela kuarza yang diperkuat dengan serat karbon. Dengan demikian, suhu di permukaan wafer dapat dipertahankan pada tingkat keseragaman ±0,1°C, sedangkan tingkat repetitivitas suhu tetap berada dalam kisaran ±0,5°C antara setiap siklus pemanasan. Array sensor sebanyak 16 buah digunakan untuk mengontrol suhu secara presisi, sehingga lapisan fotoresist dapat dikeringkan dengan baik tanpa terjadi kelebihan panas. Lampu ini dapat beroperasi 24/7 di ruang bersih kelas 1–100, dan tidak menghasilkan partikel apa pun, sebagaimana terbukti dari jumlah partikel yang diukur kurang dari 0,01/cm².&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
