IR on Warm IR Halogen Heating

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Tue, 28 Jul 2026 03:07:58 +0800

Hentikan pemborosan waktu untuk memanaskan udara
Jika Anda pernah bekerja dengan sistem sirkulasi udara panas dalam proses manufaktur semikonduktor, Anda pasti tahu betapa menyebalkannya hal tersebut. Prosesnya sangat lambat. Anda harus menunggu hingga seluruh oven menjadi panas sebelum bahan yang akan diproses benar-benar terasa hangat. Ini seperti mencoba menghangatkan ruangan menggunakan pemanas ruangan sebelum Anda bisa mulai memasak.

Kami menggunakan cara yang berbeda. Kami menggunakan lampu IR yang dikombinasikan dengan reflektor aluminium. Daripada memanaskan udara, panasnya langsung masuk ke dalam bahan yang akan diproses.

Ujung kaca keramik untuk pemancar IR

Sun, 19 Jul 2026 09:44:46 +0800

Hentikan “hujan kaca”: Mengapa Emitter IR membutuhkan penutup berbahan keramik
Di pabrik semikonduktor yang beroperasi secara massal, pecahnya tabung kuarsa bukanlah masalah kecil—itu merupakan bencana yang serius. Bayangkan saja jika emitter IR meledak tepat di atas wafer silikon. Anda tidak hanya menghadapi masalah penghentian proses produksi, tetapi juga serpihan kaca dan material logam yang jatuh ke permukaan wafer tersebut. Satu ledakan saja sudah cukup untuk menyebabkan kontaminasi di seluruh proses produksi.

Hal ini tentu sangat merepotkan. Namun, hal ini sebenarnya dapat dihindari.

Sensor IR berkualitas tinggi untuk wafer

Sun, 12 Jul 2026 06:10:50 +0800

Mempertahankan Kebersihan Wafer Saat Lampu IR Bermasalah
Sejujurnya, dalam sistem semikonduktor yang bekerja dengan beban tinggi, kerusakan pada lampu merupakan situasi yang sangat merepotkan. Bukan sekadar komponen yang rusak yang bisa diganti dalam waktu lima menit saja; ini merupakan masalah serius. Ketika tabung kuarz patah, pecahan kaca dan gas halogen akan jatuh ke atas wafer-wafer tersebut. Akibatnya, seluruh batch produk menjadi rusak, dan proses pembersihan ruang proses pun menjadi sangat sulit.

Kami merancang lampu IR sedemikian rupa agar hal tersebut tidak terjadi.

Panas dengan presisi tinggi untuk wafer IR

Sun, 28 Jun 2026 02:00:38 +0800

Di fasilitas produksi, proses litografi berjalan sesuai dengan ritmenya sendiri—anda tidak bisa menghentikannya saat proses sedang berlangsung. Jika suhu IR berubah selama proses pemanasan fotoresist, maka akan terjadi perubahan pada dimensi penting dari chip tersebut, dan hal ini akan berdampak negatif pada kualitas produk. Yang diperlukan adalah sumber panas yang stabil, sehingga suhu di seluruh permukaan wafer tetap seragam, dan profil termalnya tetap konstan setiap kali wafer melewati stasiun pemanasan tersebut.

Yang penting secara teknis: Kami menggunakan pemanas IR yang mampu menyediakan panas yang tepat di tempat yang dibutuhkan oleh fotoresist, dengan menggunakan sumber inframerah berfrekuensi tinggi yang sesuai dengan kondisi proses produksi. Di seluruh permukaan wafer, suhu harus tetap seragam dalam kisaran ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitas suhu harus mencapai ±0,2°C. Dengan demikian, setiap batch wafer akan mendapatkan perlakuan pemanasan yang sama. Desain pemanas berbasis kuarsa memastikan tidak adanya partikel berbahaya, sekaligus memungkinkan penggunaannya di ruang bersih kelas 1–100. Kontrol siklus tertutup, yang dikendalikan oleh sensor kelas A, membuat penyimpangan suhu tetap di bawah 0,5°C—sehingga lapisan-lapisan sensitif pada wafer tetap terlindungi, sekaligus mempercepat proses pemantapan suhu.