http://warm-ir-halogen.com/he/tags/%D7%AA%D7%A8%D7%9E%D7%99/ Recent content in תרמי on Warm IR Halogen Heating Hugo he Sun, 28 Jun 2026 02:00:38 +0800 http://warm-ir-halogen.com/he/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/ Sun, 28 Jun 2026 02:00:38 +0800 http://warm-ir-halogen.com/he/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/ <p><img src="http://warm-ir-halogen.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="חימום בדיוק גבוה ל Wafer IR"></p> <p>בחדר הייצור, תהליך הליתוגרפיה מתנהל בקצב משלו – אי אפשר לעצור אותו באמצע התהליך. אם טמפרטורת ה-IR משתנה במהלך תהליך החימום של הפוטורזיסט, עלולים להתרחש שינויים בממדים החשובים של הוואפר, וכתוצאה מכך ירדה באיכות המוצר. מה שנחוץ זו טמפרטורה יציבה, שנשארת אחידה בכל חלקי הוואפר, ושמחזירה על אותו פרופיל תרמי בכל פעם שהוואפר עובר את תחנת העיבוד.</p> <p><strong>מה חשוב מבחינה טכנית?</strong> אנו משתמשים במחממי IR שמספקים חום מדויק בדיוק במקום שהפוטורזיסט צריך אותו, באמצעות מקור אינפרה-אדום בעל גלים קצרים שמתאים לתהליך. בכל חלקי הוואפר, הטמפרטורה צריכה להיות אחידה בטווח של ±0.1°C, ורמת הדיוק של הטמפרטורה צריכה להיות בטווח של ±0.2°C. כך, כל סדרה של ואפרים תעבור את אותו תהליך עיבוד. עיצוב המחממים המבוסס על קוורץ מונע יצירת חלקיקים, והוא תואם לתנאים של חדרי ניקיון מסוג 1–100. בקרה במעגל סגור, בשילוב עם חיישן מסוג Class A, מוודאת שהטמפרטורה נשארת בטווח של פחות מ-0.5°C – מה שמגן על הוואפרים הרגישים ומאפשר עיבוד מהיר.</p>