Lampe de cuisson pour résiste photographique à uniformité

Sat, 27 Jun 2026 01:53:07 +0800

Dans le processus de lithographie, c’est lors des étapes de cuisson douce et de cuisson forte que se détermine la qualité du profil du photorésistant. Si la cuisson n’est pas uniforme sur toute la surface de la wafer, cela entraîne des variations de épaisseur. Ces variations se manifestent plus tard sous forme d’écartements entre les lignes tracées après l’etchage, ce qui rend la wafer invendable.

Ce qui est important en réalité Nous avons conçu la lampe de cuisson du photorésistant autour d’un ensemble d’émetteurs de rayonnement infrarouge à courte longueur d’onde, associé à une vitre en quartz renforcée de fibres de carbone. Cet équipement permet de maintenir une uniformité thermique de ±0,1 °C au niveau de la wafer, avec une répétabilité de température de ±0,5 °C d’un cycle à l’autre. Un réseau de 16 capteurs permet de contrôler précisément le profil thermique, assurant ainsi un équilibre thermique stable qui permet d’éliminer le solvant présent dans le photorésistant sans excès. La lampe fonctionne 24/7 dans des salles propres de classe 1–100, sans générer aucune particule, comme en témoignent les comptages de particules inférieurs à 0,01/cm².

Photosensible on Warm IR Halogen Heating

Lampe de cuisson pour résiste photographique à uniformité