Cuire Au Four on Warm IR Halogen Heating

Élément de chauffage pour cuisson douce en lithographie

Sat, 04 Jul 2026 05:28:25 +0800

Pourquoi un appareil de cuisson douce a-t-il besoin d’un chauffage adapté à cette tâche ?
Nous fabriquons des éléments de chauffage spécialement conçus pour la cuisson douce en lithographie, et ce, principalement pour l’étape initiale de fabrication des wafers. L’objectif est simple : maintenir la température exactement là où elle est nécessaire, pendant le processus de durcissement du photo-résistant.
Car voici la réalité : une différence de une seule degré peut entraîner la perte d’une toute série de wafers. C’est pourquoi nous avons conçu nos chauffages autour de tubes halogènes à haute densité. Ces derniers délivrent une chaleur régulière et fiable, juste là où le processus en a besoin, et nulle part ailleurs.

Lampe de cuisson pour résiste photographique à uniformité

Sat, 27 Jun 2026 01:53:07 +0800

Dans le processus de lithographie, c’est lors des étapes de cuisson douce et de cuisson forte que se détermine la qualité du profil du photorésistant. Si la cuisson n’est pas uniforme sur toute la surface de la wafer, cela entraîne des variations de épaisseur. Ces variations se manifestent plus tard sous forme d’écartements entre les lignes tracées après l’etchage, ce qui rend la wafer invendable.

Ce qui est important en réalité Nous avons conçu la lampe de cuisson du photorésistant autour d’un ensemble d’émetteurs de rayonnement infrarouge à courte longueur d’onde, associé à une vitre en quartz renforcée de fibres de carbone. Cet équipement permet de maintenir une uniformité thermique de ±0,1 °C au niveau de la wafer, avec une répétabilité de température de ±0,5 °C d’un cycle à l’autre. Un réseau de 16 capteurs permet de contrôler précisément le profil thermique, assurant ainsi un équilibre thermique stable qui permet d’éliminer le solvant présent dans le photorésistant sans excès. La lampe fonctionne 24/7 dans des salles propres de classe 1–100, sans générer aucune particule, comme en témoignent les comptages de particules inférieurs à 0,01/cm².

Lampe de cuisson pour résine DUV (UV profond)

Fri, 05 Jun 2026 01:45:42 +0800

Sur le sol de lithographie, vous connaissez la procédure : une cuisson qui dérive même d’un demi-degré entraîne un contrôle CD hors spécifications. Vous passez le photoresist DUV par une cuisson douce et une cuisson dure pour évacuer le solvant et figer le profil. Si le budget thermique est déséquilibré, les lignes s’élargissent, la rugosité des bords augmente, et le tout se retrouve soudainement dans le rouge. La lampe de cuisson du résistant DUV est là pour éliminer cette variabilité.

Ce qui compte vraiment en coulisses
Nous avons conçu cette lampe pour diffuser de l’énergie à ondes courtes là où le résistant DUV l’absorbe réellement, avec des pièces en quartz qui maintiennent le spectre stable. Sur le mandrin, l’uniformité au niveau du wafer reste dans une fourchette de ±0,1°C, de sorte que chaque wafer du lot subisse la même histoire de température. Le comportement en salle blanche n’est pas une réflexion après coup : les espaces de classe 1 à 100 ne présentent aucune augmentation de particules, et la zone chaude reste contenue pour éviter que les dégazages ne contaminent le résistant. La sortie se répète sur des milliers de cycles de cuisson, et la masse thermique est gérée pour éviter toute dérive lorsque la ligne fonctionne 24/7.