Chaleur à haute précision pour IR de wafer

Sun, 28 Jun 2026 02:00:37 +0800

Sur le site de fabrication, la lithographie se déroule à son propre rythme : on ne peut pas arrêter le processus lorsque celui-ci est en cours. Si la température infrarouge varie pendant le séchage du photorésistant, il devient difficile de contrôler les dimensions critiques des composants, ce qui affecte négativement la qualité des produits finis. Ce dont on a besoin, c’est d’une chaleur stable, uniforme sur toute la surface de la puce, et qui reproduise toujours le même profil thermique chaque fois que la puce passe par cette étape du processus.

Bulbe de chauffage infrarouge R7s pour fabrication

Fri, 19 Jun 2026 02:45:32 +0800

Sur le plateau de lithographie, une variation de 2 °C dans la température de séchage du photo-résistant suffit pour que les dimensions critiques changent de quelques nanomètres, ce qui peut rendre de nombreuses wafer inutilisables. La lampe à infrarouges R7s a été conçue pour maintenir une température constante à l’intérieur de la zone ciblée, sans que cette température ne varie dans toute la pièce.

Ce qui est important La lampe R7s émet des ondes infrarouges à courte longueur d’onde, ce qui permet de transmettre directement la chaleur au photo-résistant et au substrat. La température cible est atteinte rapidement et reste stable. Sur toute la surface de séchage, l’uniformité de la température est de ±0,1 °C, ce qui garantit des résultats répétables, lot après lot.

Chaleur on Warm IR Halogen Heating

Chaleur à haute précision pour IR de wafer

Bulbe de chauffage infrarouge R7s pour fabrication