Lampe zur Aushärtung des Photoretiners für die Erzielung von Gleichmäßigkeit

Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800

Im Bereich der Lithografie entsteht das Profil des Fotolacks durch den weichen sowie den harten Trocknungsprozess. Wenn die Trocknung nicht gleichmäßig auf der gesamten Waferfläche stattfindet, entstehen Dickenunterschiede. Das zeigt sich später als Abweichungen in der Dicke des Fotolacks nach dem Ätzen – die Wafer werden dann als unbrauchbar betrachtet.

Was wirklich wichtig ist: Wir haben die Lampe zum Trocknen des Fotolacks um einen Array aus Kurzwellen-NIR-Emittoren herum gebaut – in Kombination mit einem aus Kohlenstofffasern verstärkten Quarzfenster. Dadurch wird eine thermische Gleichmäßigkeit auf der Waferfläche von ±0,1 °C gewährleistet. Die Temperaturgenauigkeit bleibt zyklusweise bei ±0,5 °C. Ein 16-Sensor-Array sorgt für eine kontrollierte Steuerung des Trocknungsprozesses – dadurch bleibt die Temperatur konstant, was wiederum dazu führt, dass der Lösungsmittel aus dem Fotolack entfernt wird, ohne dass es zu Überschreitungen kommt. Die Lampe arbeitet 24/7 in Reinräumen der Klasse 1–100 und erzeugt keine Partikel – dies wird durch Messungen unterhalb von 0,01/cm² bestätigt.

Photoresist on Warm IR Halogen Heating

Lampe zur Aushärtung des Photoretiners für die Erzielung von Gleichmäßigkeit