Halbleiterlaborofenlampe

Wed, 24 Jun 2026 01:25:04 +0800

In der Fertigungshalle ist das Erhitzen des Fotolacks keine bloße Empfehlung – es handelt sich dabei um eine Notwendigkeit. Eine Abweichung von nur einem halben Grad beim Weichbrennen hat direkte Auswirkungen auf die Kontrolle der kritischen Abmessungen. Ein Hotspot beim Hartbrennen führt wiederum zu Problemen wie Verunreinigungen und einer reduzierten Qualität des Produkts. Man braucht also eine Ofenlampe, deren Leistung von Schicht zu Schicht konstant bleibt – mit einer zuverlässigen Wärmeabgabe.

Was wirklich wichtig ist Wir haben diese Laborofenlampe so entwickelt, dass sie den Anforderungen der internationalen Standards für Halbleiterausrüstung entspricht. Kurzwellige Infrarotstrahler, die in Quarz eingeschlossen sind, sorgen für eine schnelle Reaktion sowie eine präzise Steuerung des Spektrums. Das Ergebnis ist eine gleichmäßige Temperaturverteilung auf der Waferoberfläche von ±0,1°C sowie eine Wiederholgenauigkeit von besser als ±0,3°C über 5.000 Stunden hinweg. Die Leistung bleibt stabil – mit weniger als 5% Abweichung in Bezug auf Lumen und Energie. So bleibt das thermische Gleichgewicht gewährleistet.

Labor on Warm IR Halogen Heating

Halbleiterlaborofenlampe