IR on Warm IR Halogen Heating

Aluminium Reflektor für IR Lampe

Tue, 28 Jul 2026 03:07:57 +0800

Hören Sie auf, Zeit mit der Erwärmung der Luft zu verschwenden!
Wenn Sie bereits Erfahrung mit der Verwendung von Heißluft in der Halbleiterfertigung haben, wissen Sie, wie frustrierend das ist. Es dauert ewig, bis der ganze Ofen heiß genug ist – bis die Werkstücke überhaupt eine Wirkung spüren können. Es ist, als würde man versuchen, einen Raum mit einem Heizgerät aufzuwärmen, bevor man wirklich mit dem Kochen beginnen kann.

Wir machen es anders. Wir verwenden IR-Lampen in Kombination mit Aluminiumreflektoren. Anstatt die Luft zu erwärmen, gelangt die Wärme direkt in das Material.

Keramische Endkappe für IR Emitter

Sun, 19 Jul 2026 09:44:39 +0800

Stoppen Sie den „Glasregen“: Warum Ihre IR-Emitter Keramikendkappen benötigen
In einer Fabrik mit hoher Produktionskapazität ist das Platzen eines Quarzrohrs nicht nur lästig – es ist ein Albtraum. Stellen Sie sich vor, ein IR-Emitter platzt direkt über einer Siliziumschicht. Dann haben Sie nicht nur Stillstand zu bewältigen, sondern auch mit Glassplittern und Metalltrümmern zu rechnen, die auf die Substrate fallen. Ein solcher Vorfall führt dazu, dass die gesamten Produkte kontaminiert werden.

Es handelt sich dabei um ein großes Problem – doch es lässt sich vollständig vermeiden.

Präziser IR Sensor für Wafer

Sun, 12 Jul 2026 06:10:46 +0800

Wie man die Wafer sauber hält, wenn die Hochleistungs-IR-Lampen versagen
Seien wir ehrlich: In einer Hochleistungs-Semiconductor-Anlage ist das Versagen einer Lampe ein Albtraum. Es handelt sich dabei nicht einfach um einen defekten Teil, den man in fünf Minuten ersetzen kann. Es entsteht ein echtes Chaos – wenn eine Quarzröhre zerbricht, fallen Glassplitter sowie Halogene auf die Wafer. Dadurch wird eine ganze Charge ruiniert, und es muss viel Arbeit investiert werden, um die Kammer wieder sauber zu bekommen.

Wir bauen unsere IR-Lampen so, dass so etwas nicht passiert.

Hohe Präzision bei der Erwärmung von Wafern per Infrarotstrahlung

Sun, 28 Jun 2026 02:00:37 +0800

In der Fertigungsstätte verläuft der Lithografieprozess in seinem eigenen Rhythmus – man kann den Prozess nicht anhalten, während er läuft. Wenn die IR-Temperatur während des Weichbrennvorgangs oder des Hartbrennvorgangs schwankt, muss man mit Veränderungen in den kritischen Abmessungen rechnen – dadurch sinkt die Qualitätsrate. Was man braucht, ist eine konstante Temperatur, die über der gesamten Waferfläche gleichmäßig ist und jedes Mal dasselbe thermische Profil liefert, wenn das Wafer in die Behandlungsstation kommt.