<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Teplo on Warm IR Halogen Heating</title>
		<link>http://warm-ir-halogen.com/cs/tags/teplo/</link>
		<description>Recent content in Teplo on Warm IR Halogen Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 02:00:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-halogen.com/cs/tags/teplo/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Vysokopřesný ohřev pro IR destičky</title>
				<link>http://warm-ir-halogen.com/cs/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 02:00:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-halogen.com/cs/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Vysokopřesný ohřev pro IR destičky&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V prostorách výroby probíhá proces litografie vlastním tempem – nelze přerušit jeho průběh. Pokud dojde ke změnám teploty během zahřívání fotorezistu, musíte okamžitě bojovat s problémy spojenými s změnami rozměrů výrobku, což negativně ovlivňuje kvalitu výrobku. Potřebujete tedy teplo, které zůstane konstantní, je homogenní po celé ploše čipu a opakuje se pokaždé, když čip prochází danou stupnicí zpracování.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co je technicky důležité&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Používáme ohřívače na bázi infrakrátkých vln, které poskytují přesné teplo tam, kde ho fotorezistent potřebuje. Přes celou plochu čipu je teplota udržována v rozmezí ±0,1 °C, přičemž opakovatelnost hodnoty teploty je ±0,2 °C. Každá série výrobků tak prochází stejným procesem zpracování. Konstrukce emitorů na bázi křemíku zajišťuje nulovou tvorbu částic a zároveň umožňuje použití v prostředích s úrovní čistoty 1–100. Řízení s uzavřenou smyčkou a senzorem třídy A zajišťuje, že nadměrný nárůst teploty nepřesáhne 0,5 °C – čímž se chrání citlivé součásti čipu a zároveň se proces rychle stabilizuje.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
