<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotorezistent on Warm IR Halogen Heating</title>
		<link>http://warm-ir-halogen.com/cs/tags/fotorezistent/</link>
		<description>Recent content in Fotorezistent on Warm IR Halogen Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-halogen.com/cs/tags/fotorezistent/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampa na vypalování fotorezisty pro jednotnost</title>
				<link>http://warm-ir-halogen.com/cs/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-halogen.com/cs/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-halogen.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lampa na vypalování fotorezisty pro jednotnost&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;procesu&lt;/a&gt; litografie je právě během fází měkkého a tvrdého zahřevu určován profil fotorezistu – buď se vytvoří požadovaný profil, nebo naopak dojde k jeho narušení. Pokud není zahřev na celé ploše waferu rovnoměrný, vzniknou rozdíly v tloušťce fotorezistu. Ty se později projeví jako odchylky v velikosti struktur po leptání, a wafer tak končí jako šrot.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co je důležité při tomto procesu&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Lampu na zahřívání fotorezistu jsme navrhli tak, aby používala emitory krátkovlnného infračerveného záření spojené s sklem posíleným uhlíkovými vlákny. Tato konstrukce zajišťuje teplotní rovnoměrnost na úrovni waferu na hodnotě ±0,1 °C, přičemž opakovatelnost teploty zůstává v rozmezí ±0,5 °C mezi jednotlivými cykly. Série 16 senzorů umožňuje udržovat profil fotorezistu v uzavřené smyčce, čímž je dosaženo stabilní teploty potřebné k odstranění rozpouštědel z fotorezistu bez nadměrných odchylek. Lampa funguje 24/7 v čistých prostorách třídy 1–100 a nevytváří žádné částice – to potvrzují měření počtu částic pod hranicí 0,01/cm².&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
