Bake on Warm IR Halogen Heating

Výhřevný prvek pro měkké pečení v litografii

Sat, 04 Jul 2026 05:28:26 +0800

Proč potřebuje proces měkkého zahřívání topný prvek určený právě k tomuto účelu
Vyrábíme topné prvky určené k použití při procesu měkkého zahřívání v litografii – konkrétně na počáteční fázi výroby čipů. Celý princip je jednoduchý: udržet teplo přesně tam, kde je potřeba, během procesu zasychání fotorezistoru.
Realita je taková – odchylka o jeden stupeň může znamenat ztrátu celé série výrobků. Proto jsme naše topné prvky navrhli s využitím halogenových trubic s vysokou hustotou. Ty vyzařují stabilní a předvídatelné teplo přesně tam, kde je potřeba, a nic jiného.

Lampa na vypalování fotorezisty pro jednotnost

Sat, 27 Jun 2026 01:53:08 +0800

V procesu litografie je právě během fází měkkého a tvrdého zahřevu určován profil fotorezistu – buď se vytvoří požadovaný profil, nebo naopak dojde k jeho narušení. Pokud není zahřev na celé ploše waferu rovnoměrný, vzniknou rozdíly v tloušťce fotorezistu. Ty se později projeví jako odchylky v velikosti struktur po leptání, a wafer tak končí jako šrot.

Co je důležité při tomto procesu
Lampu na zahřívání fotorezistu jsme navrhli tak, aby používala emitory krátkovlnného infračerveného záření spojené s sklem posíleným uhlíkovými vlákny. Tato konstrukce zajišťuje teplotní rovnoměrnost na úrovni waferu na hodnotě ±0,1 °C, přičemž opakovatelnost teploty zůstává v rozmezí ±0,5 °C mezi jednotlivými cykly. Série 16 senzorů umožňuje udržovat profil fotorezistu v uzavřené smyčce, čímž je dosaženo stabilní teploty potřebné k odstranění rozpouštědel z fotorezistu bez nadměrných odchylek. Lampa funguje 24/7 v čistých prostorách třídy 1–100 a nevytváří žádné částice – to potvrzují měření počtu částic pod hranicí 0,01/cm².

Hloubková UV (DUV) sušící lampa na rezist.

Fri, 05 Jun 2026 01:45:43 +0800

Na lithografickém pracovišti víte, jak na to: pečení, které se odchýlí i o půl stupně, způsobí, že kontrola CD vyjde mimo specifikaci. Provádíte DUV fotorezist přes měkké a tvrdé pečení, abyste odstranili rozpouštědlo a uzamkli profil. Pokud je tepelný rozpočet mimo, linky se rozšiřují, drsnost okrajů stoupá a celá šarže je najednou v červených číslech. Pečící lampa DUV resist je zde, aby odstranila tuto variabilitu z rovnice.
Co je skutečně důležité pod kapotou
Tuto lampu jsme vyvinuli, abychom vyzařovali krátkovlnnou energii tam, kde ji DUV resist skutečně absorbuje, s křemíkovými částmi, které udržují spektrum stabilní. Napříč šroubovicí udržuje uniformita na úrovni waferu v rozmezí ±0,1 °C, takže každý wafer v šarži má stejnou teplotní historii. Chování v čistém prostoru není dodatečné — prostory třídy 1-100 nevidí žádný nárůst částic, a horká zóna zůstává uzavřená, takže odplynění nemůže kontaminovat resist. Výstup se opakuje přes tisíce pečících cyklů a tepelná hmotnost je řízena tak, aby nedocházelo k odchylkám, když linka běží 24/7.
Proč to vydrží v DUV lithografii
Výnos závisí na procesních oknech, která skutečně dokážete udržet. Těsnější tepelná kontrola snižuje odchylky CD a chrání překryvné okraje, což znamená méně odpadu a méně přepracování. Zkracování na konci linky zůstává konzistentní a drsnost okrajů klesá, protože se pečící profil opakuje šarže za šarží. Efektivní spojení a rychlá stabilizace udržují spotřebu energie pod kontrolou a profil spolehlivosti vás udržuje v harmonogramu bez nečekaného výpadku. Výsledek je méně potíží s parametry a výstupem, který můžete předvídat.
Co musíte udělat při instalaci
Zajištění shody rozměrů lampy a rozhraní s vaším nátěrovým/pečícím traktem je prvním krokem. Poskytujeme specifikace konektorů a data pro zarovnání, ale stále musíte ověřit geometrii pečící komory. Očekávejte rychlé vypálení a tepelnou mapu, aby se uzamkl profil na vašem resist stacku. A jedna praktická poznámka: lampa musí být spárována s odtahovým systémem určeným pro čisté prostory, aby se vyrovnala s stopovými těkavými látkami během pečení při vysoké teplotě.