Out on the fab floor, a half-degree drift during the photoresist bake is all it takes to scrap a full carrier. You need a dryer that holds...

На лінії 300 мм відхилення менше 0,1°C під час сушки достатньо, щоб зсунути критичний розмір на нанометри — і при цьому спостерігати зростання...