Nella fase di litografia, i processi di “soft bake” e “hard bake” sono quelli che determinano se il profilo del fotorestist viene mantenuto o alterato. Se la temperatura non è uniforme su tutta la superficie del wafer, si verificano variazioni di spessore. Questo porta, in seguito, a deviazioni nella dimensione dei circuiti realizzati dopo l’etching; il wafer diventa quindi inutilizzabile.
Cosa è importante per ottimizzare il processo
Abbiamo progettato la lampada per il trattamento termico del fotorestist utilizzando un array di emettitori a onde corte nel campo infrarosso, abbinato a una finestra in quarzo rinforzata con fibra di carbonio. Questo sistema consente di mantenere un’omogeneità termica sul wafer entro ±0,1°C, mentre la ripetibilità della temperatura rimane entro ±0,5°C da ciclo a ciclo. Un array di 16 sensori permette di mantenere il profilo termico sotto controllo continuo, assicurando così una stabilizzazione delle condizioni termiche necessarie per eliminare i solventi dal fotorestist senza che vi siano sbalzi di temperatura. La lampada funziona 24/7 nelle stanze pulite di classe 1–100, senza generare alcuna particella, come confermato dai controlli effettuati che mostrano un numero di particelle inferiore a 0,01/cm².
Ecco perché questa precisione è così importante: il processo di “soft bake” permette di eliminare i solventi in modo uniforme, mentre il processo di “hard bake” assicura che il fotorestist mantenga le sue caratteristiche ottimali, senza alcuna variazione nella larghezza dei circuiti o nell’angolazione delle pareti laterali.
L’etching riflette immediatamente questi miglioramenti: meno effetti negativi legati alla distribuzione uniforme dei materiali, minor necessità di rifiniture e un controllo preciso delle dimensioni dei circuiti su tutto il wafer. Anche il consumo energetico diminuisce, poiché la lampada raggiunge rapidamente la temperatura desiderata e la mantiene costante, riducendo così le perdite termiche.
L’installazione è semplice, ma è necessario disporre di un alimentatore dedicato a 24VDC e di un sistema di alimentazione di aria pulita e asciutta per mantenere la finestra alla temperatura desiderata. La lampada può essere utilizzata con la maggior parte dei sistemi di applicazione del fotorestist, ma è necessario verificare l’adesione degli adattatori specifici per ogni piattaforma.
È importante pianificare correttamente il bilancio termico per l’intero processo di trattamento termico. Le prestazioni della lampada dipendono dalla massa termica del supporto su cui viene posizionato il wafer.