Di area litografi, proses “soft bake” dan “hard bake” merupakan tahap di mana profil lapisan fotoresist dibentuk atau diubah. Jika proses pemanasan tidak seragam di seluruh permukaan wafer, maka akan terjadi variasi ketebalan lapisan fotoresist. Hal ini akan berdampak pada perubahan ukuran wafer setelah proses etching, sehingga wafer tersebut menjadi tidak dapat digunakan lagi.
Apa yang penting dalam proses ini? Kami merancang lampu pemanas untuk lapisan fotoresist menggunakan array emitor cahaya inframerah berfrekuensi rendah, dikombinasikan dengan jendela kuarza yang diperkuat dengan serat karbon. Dengan demikian, suhu di permukaan wafer dapat dipertahankan pada tingkat keseragaman ±0,1°C, sedangkan tingkat repetitivitas suhu tetap berada dalam kisaran ±0,5°C antara setiap siklus pemanasan. Array sensor sebanyak 16 buah digunakan untuk mengontrol suhu secara presisi, sehingga lapisan fotoresist dapat dikeringkan dengan baik tanpa terjadi kelebihan panas. Lampu ini dapat beroperasi 24/7 di ruang bersih kelas 1–100, dan tidak menghasilkan partikel apa pun, sebagaimana terbukti dari jumlah partikel yang diukur kurang dari 0,01/cm².
Inilah alasan mengapa tingkat presisi tersebut sangat penting dalam proses produksi. Proses “soft bake” membantu pengeluaran pelarut dari lapisan fotoresist secara konsisten, sementara proses “hard bake” memastikan lapisan fotoresist tetap stabil tanpa adanya aliran udara yang tidak diinginkan. Dengan demikian, lebar jalur proses dan sudut samping wafer tetap stabil.
Proses etching juga menunjukkan peningkatan yang signifikan: efek mikroloading berkurang, kebutuhan untuk melakukan proses perbaikan berkurang, dan kontrol ukuran wafer menjadi lebih akurat. Penggunaan energi juga berkurang, karena lampu dapat mencapai suhu yang ditentukan dalam hitungan detik, sehingga kerugian energi akibat panas yang tidak diperlukan pun berkurang.
Pemasangan lampu ini cukup mudah, tetapi diperlukan sumber daya listrik 24VDC serta pasokan udara bersih dan kering agar suhu jendela tetap stabil. Lampu ini cocok digunakan pada berbagai macam mesin pelapisan/pemanasan, tetapi perlu dipastikan adanya adaptator yang sesuai untuk setiap platform tertentu.
Perlu direncanakan dengan matang besarnya beban termal yang dialami oleh lampu tersebut. Kinerja lampu bergantung pada massa termal dari chuck dan tumpukan wafer yang digunakan.