כאן תמצאו את העמודים אשר משתמשים בטקסונומיה “תרמי” חימום בדיוק גבוה ל Wafer IR בחדר הייצור, תהליך הליתוגרפיה מתנהל בקצב משלו – אי אפשר לעצור אותו באמצע התהליך. אם טמפרטורת ה-IR משתנה במהלך תהליך החימום של הפוטורזיסט, עלולים... Read more...
חימום בדיוק גבוה ל Wafer IR בחדר הייצור, תהליך הליתוגרפיה מתנהל בקצב משלו – אי אפשר לעצור אותו באמצע התהליך. אם טמפרטורת ה-IR משתנה במהלך תהליך החימום של הפוטורזיסט, עלולים... Read more...
