Výhřevný prvek pro měkké pečení v litografii
Proč potřebuje proces měkkého zahřívání topný prvek určený právě k tomuto účelu
Vyrábíme topné prvky určené k použití při procesu měkkého zahřívání v...
Lampa na vypalování fotorezisty pro jednotnost
V procesu litografie je právě během fází měkkého a tvrdého zahřevu určován profil fotorezistu – buď se vytvoří požadovaný profil, nebo naopak dojde k...
Hloubková UV (DUV) sušící lampa na rezist.
Na lithografickém pracovišti víte, jak na to: pečení, které se odchýlí i o půl stupně, způsobí, že kontrola CD vyjde mimo specifikaci. Provádíte DUV...